VeritySEM 20 是應用材料（Applied Materials）的 CD-SEM 量測平台，專為量測先進邏輯與記憶體的關鍵尺寸而設計。CD-SEM 被稱為「晶圓廠的尺規」，量測曝光後光阻圖案的線寬等，並以這些資料校正曝光機與製程。
在 EUV，尤其是 High-NA EUV 中，光阻變薄，尺寸量測變得困難。VeritySEM 20 以業界頂尖等級的次奈米電子束解析度，快速量測晶圓全面數百個點的 CD，加快 EUV 掃描機的校正。並以低著陸能量抑制對薄而脆弱光阻的影響，在不損傷圖案的情況下進行量測。
也強化了 GAA 電晶體、DRAM 與 3D NAND 的量測。以多方向掃描方式穩定 EUV／High-NA EUV 極薄光阻的邊緣定義，並改善邊緣的對稱性。依用途不同，產能提升 20～50%，2D 結構匹配最多改善 25%。