最後更新:2026年10月23日晶體缺陷檢測設備

GALOIS211的特點與規格

Lasertec・晶體缺陷檢測設備

高速偵測 GaN 晶圓各種缺陷,並以高解析度觀察的 GaN 晶圓缺陷檢測・複檢設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

GALOIS211 是 Lasertec 的 GaN 晶圓缺陷檢測・複檢設備。GALOIS 系列於 2017年12月發表。可快速偵測 GaN 晶圓的各種缺陷,並以高解析度觀察。

採用適合透明基板檢測的共焦光學系統,不受背面反射等影響,可穩定檢測。以微分干涉光學系統高靈敏度偵測淺刮傷與各種結晶缺陷。由於可透過光源與光學濾鏡選擇波長,即使是 GaN on SiC 等異質磊晶結構,也不受膜干涉影響,能以最佳條件檢測。

以最新的影像處理,不受 GaN 表面形貌影響即可檢測,6 吋晶圓 6 分鐘即可完成。用於塊材 GaN、同質磊晶・異質磊晶 GaN 晶圓的缺陷檢測,以及磊晶成長・研磨的製程管理。

主要規格

方式共焦光學系統・微分干涉光學系統・波長選擇
適用晶圓尺寸最大 Φ8 吋
檢測時間6 分鐘/片(Φ6 吋・10x 鏡頭)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

共焦+微分干涉光學系統
以波長選擇避開膜干涉
6 吋晶圓 6 分鐘完成檢測

主要用途

  • GaN 晶圓・磊晶的缺陷檢測

製造商與在台據點

在台據點
  • Lasertec Taiwan(新竹縣竹北市):2010 年成立,負責銷售與技術支援

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資料來源

  1. Lasertec 官方產品頁面:GALOIS211