最後更新:2026年10月23日光罩檢測設備

MATRICS X9ULTRA 系列的特點與規格

Lasertec・光罩檢測設備

專為未裝光罩保護膜之 EUV 光罩設計的光罩檢測設備。以高功率 193nm 雷射與高 NA 物鏡檢出微小異物。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

MATRICS X9ULTRA 系列是 Lasertec 面向 EUV 光罩的光罩檢測設備,於 2022年4月發表。

這是專為未裝光罩保護膜之 EUV 光罩設計的光罩檢測系統。搭載高功率 193nm 雷射與高 NA 物鏡,提升微小異物的檢出性能。

用於晶圓廠對未裝光罩保護膜之 EUV 光罩的品質確認檢測,以及 EUV 光罩製程中的微小異物檢測。

主要規格

光源高功率 193nm 雷射
對象未裝光罩保護膜的 EUV 光罩
發表2022年4月

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

專為未裝光罩保護膜的 EUV 光罩設計
高功率 193nm 雷射
高 NA 物鏡

主要用途

  • EUV 光罩的微小異物檢測

製造商與在台據點

在台據點
  • Lasertec Taiwan(新竹縣竹北市):2010 年成立,負責銷售與技術支援

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資料來源

  1. Lasertec 官方產品頁面:MATRICS X9ULTRA