PELMIS 系列是 Lasertec 的 EUV 光罩保護膜異物檢測設備,於 2024年12月發表,能以高性能分類 EUV 光罩保護膜的缺陷。
針對附光罩保護膜的 EUV 光罩,檢測附著在保護膜面上的異物,並自動判別異物位於正面還是背面。
除保護膜面外,也支援光罩圖案面與圖案外圍部的異物檢測,並可進行晶粒比對檢測與光罩對光罩比對檢測。用於晶圓廠的 EUV 光罩保護膜與光罩圖案面檢測,以及光罩廠 EUV 光罩製程中的異物檢測。
檢測附光罩保護膜之 EUV 光罩保護膜面上的異物,並自動判別正反面的 EUV 光罩保護膜異物檢測設備。
PELMIS 系列是 Lasertec 的 EUV 光罩保護膜異物檢測設備,於 2024年12月發表,能以高性能分類 EUV 光罩保護膜的缺陷。
針對附光罩保護膜的 EUV 光罩,檢測附著在保護膜面上的異物,並自動判別異物位於正面還是背面。
除保護膜面外,也支援光罩圖案面與圖案外圍部的異物檢測,並可進行晶粒比對檢測與光罩對光罩比對檢測。用於晶圓廠的 EUV 光罩保護膜與光罩圖案面檢測,以及光罩廠 EUV 光罩製程中的異物檢測。
| 對象 | 附光罩保護膜的 EUV 光罩(保護膜面・圖案面・外圍部) |
|---|---|
| 功能 | 正反面自動判別・晶粒比對・光罩對光罩比對 |
| 發表 | 2024年12月 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。