再生ウェハメーカー4社
再生ウェハは、装置調整やモニタ用途で使ったウェハの表面膜を除去し、研磨し直して再び使えるようにしたウェハです。ファブでは装置のパーティクル確認や成膜レート測定に多数のウェハを消費しますが、これらはデバイスを作るわけではないため、新品を使う必要がありません。剥離・研磨・洗浄・検査を経て平坦度と清浄度の規格を満たせば再投入でき、コストを大幅に下げられます。再生を繰り返すと厚みが規格を下回るため、再生可能回数には限りがあります。
主要特徴
スペック比較
複数の製品が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 三益半導体工業再生ウェハ(300mm) | 三益半導体工業ダミーウェハ・モニタウェハ | SUMCO再生ウェハ・モニタウェハ |
|---|---|---|---|
| 口径 | 300 mm/200 mm | 300 mm/200 mm/150 mm | 300 mm/200 mm |
| 管理指標 | 厚み・平坦度・パーティクル・金属不純物 | 厚み公差・表面粗さ・パーティクル | 平坦度・パーティクル・金属不純物 |
| 主要用途 | 装置立ち上げ・条件出し・パーティクル評価 | 装置立ち上げ・日常モニタ・搬送テスト | モニタ・ダミー・装置評価 |
| 工程 | 膜剥離 → 研磨 → 洗浄 → 検査 | — | 膜剥離・研磨・洗浄・検査 |
| 供給形態 | — | カセット・FOUP 単位 | FOUP/カセット単位 |
1製品だけが掲載している項目(2件)
| 再生回数の目安 | 厚み減少の許容範囲内で複数回 | — | — |
|---|---|---|---|
| 種類 | — | ダミーウェハ・膜厚モニタウェハ | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
再生ウェハ(300mm)
テスト・ダミーで使ったウェハの膜を剥がし、研磨・洗浄して再利用できる状態に戻したもの。新品より大幅に安く、装置立ち上げ用に使われる。
| 口径 | 300 mm/200 mm |
| 工程 | 膜剥離 → 研磨 → 洗浄 → 検査 |
| 再生回数の目安 | 厚み減少の許容範囲内で複数回 |
| 管理指標 | 厚み・平坦度・パーティクル・金属不純物 |
| 主要用途 | 装置立ち上げ・条件出し・パーティクル評価 |
ダミーウェハ・モニタウェハ
装置の条件出しや膜厚モニタに使う専用ウェハ。デバイスを作らないため、要求されるのは寸法と清浄度の安定性になる。
| 口径 | 300 mm/200 mm/150 mm |
| 種類 | ダミーウェハ・膜厚モニタウェハ |
| 管理指標 | 厚み公差・表面粗さ・パーティクル |
| 主要用途 | 装置立ち上げ・日常モニタ・搬送テスト |
| 供給形態 | カセット・FOUP 単位 |
再生ウェハ・モニタウェハ
新品ウェハと同じ加工ラインの技術を使った再生ウェハ。再生でも金属不純物とパーティクルの管理値は量産ラインの基準に合わせる。
| 口径 | 300 mm/200 mm |
| 工程 | 膜剥離・研磨・洗浄・検査 |
| 管理指標 | 平坦度・パーティクル・金属不純物 |
| 主要用途 | モニタ・ダミー・装置評価 |
| 供給形態 | FOUP/カセット単位 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
4社の主要メーカー
シリコンウェハの加工受託を主業とする群馬のメーカー。インゴットのスライスから面取り、ラッピング、エッチング、鏡面研磨、洗浄までウェハ加工の一連工程を受託し、信越半導体との結び付きが強い。
- •スライスから鏡面研磨・洗浄までの一貫受託
- •300mmウェハ加工の量産実績
シリコンウェハ専業の世界第2位メーカー。三菱マテリアル・住友金属鉱山のウェハ事業を統合し、300mmウェハを中心に世界の主要Fabに供給。
- •シリコンウェハ世界シェア約25%(第2位)
- •300mmエピウェハ・SOIウェハの先端品対応
シリコンウェーハ再生加工を主力事業とする。半導体工場から預かった使用済みのテスト/モニター用ウェーハを、薬品処理と研磨加工で再生して返却する。中国ではプライムウェーハの製造も行う。
- •シリコンウェーハ再生加工の大手
- •薬品処理と研磨による再生技術
1997年設立の台湾企業。再生ウェハ事業から始まり、ウェハ薄化の加工サービスへ事業を広げた。現在はウェハ再生とウェハ薄化の2事業を柱とする。
- •台湾の再生ウェハ大手
- •ウェハ薄化の加工サービス
関連カテゴリ
化合物半導体ウェハは、GaAs・InP・GaN・サファイアなど複数元素からなる半導体基板の総称です。
メーカー 4 社エピタキシャルウェハエピタキシャルウェハは、単結晶基板の上に結晶方位を引き継いだ薄い単結晶層を成長させたウェハです。
メーカー 5 社多結晶シリコン(ポリシリコン)多結晶シリコン(ポリシリコン)は、単結晶シリコンインゴットを引き上げるための原料となる高純度シリコンです。
メーカー 3 社SiCウェハSiCウェハは、シリコンより約3倍広いバンドギャップを持つ炭化ケイ素の単結晶基板です。
メーカー 5 社シリコンウェハシリコンウェハは、半導体デバイスの大半が作り込まれる単結晶シリコンの円板です。
メーカー 6 社SOIウェハSOIウェハは、シリコン活性層と支持基板の間に埋め込み酸化膜(BOX層)を挟んだ構造の基板です。
メーカー 3 社特殊基板(サファイア・LT/LN・ガラス)特殊基板は、シリコンや化合物半導体以外の材料で作るウェハの総称で、サファイア・タンタル酸リチウム(LT)・ニオブ酸リチウム(LN)・水晶・ガラスなどが含まれます。
メーカー 4 社