ATL100とは
ATL100（Accurate Tunable Laser）は、KLA のスキャトロメトリ方式の重ね合わせ（オーバーレイ）計測装置です。7nm 以下のノードの開発と量産で重ね合わせの管理に使われます。
分解能 1nm の波長可変レーザー技術とリアルタイムの Homing 機能を組み合わせ、製造工程のばらつきがあっても高い重ね合わせ精度を保ちます。
ダイ内や小ピッチのものを含む多様なスキャトロメトリ用の計測ターゲットに対応し、工程層、デバイスの種類、ノード、パターニング技術の違いに合わせて重ね合わせ誤差を正確に測ります。
主な特長
- •波長可変レーザー（分解能 1nm）
- •リアルタイム Homing
- •ダイ内・小ピッチターゲット対応
主な仕様
| 方式 | スキャトロメトリ重ね合わせ計測（波長可変レーザー・分解能 1nm） |
|---|---|
| 対象ノード | 7nm 以下 |
| 特徴 | リアルタイム Homing・ダイ内／小ピッチターゲット対応 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLAArcher™ 750 | KLAATL100™ | KLAArcher™ Power | ASMLYieldStar 1390 | ASMLYieldStar 1385 | ASMLYieldStar 500 | Onto InnovationIVS 380 | Onto InnovationIVS 280 | ニコン（Nikon）Litho Booster |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | — | スキャトロメトリ重ね合わせ計測（波長可変レーザー・分解能 1nm） | イメージング重ね合わせ・CD 計測 | 光学計測（エッチング後） | 光学計測（エッチング後） | 回折ベースの光学計測（エッチング前） | 光学式の重ね合わせ・CD・Z 高さ計測 | — | — |
| 特徴 | 波長可変光源 | リアルタイム Homing・ダイ内／小ピッチターゲット対応 | — | 高強度光源・機械学習アルゴリズム | 複数層の同時計測・高いサンプリング密度 | TWINSCAN ステージ技術・新センサー | — | — | — |
| 対応基板 | — | — | Si・SiC・GaN・GaAs・ガラス・サファイアなど | — | — | — | 200mm（SMIF）・300mm（FOUP）、Si・ガラス・CCL | Si・SiC・石英・ガラス・GaAs・GaN・LiNbO₃ | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 150／200／300 mm・ブリッジ構成 | — | — | — | — | 100〜200 mm | — |
| 測定項目 | — | — | — | デバイス上の重ね合わせ・傾き・CD | — | 重ね合わせ・フォーカス | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目（10件）
| 測定方式 | イメージングベース・オーバーレイ計測 | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対象世代 | 7nm 以下ロジック・先端メモリ | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | Archer 800（後継）・ATL100（散乱計測方式） | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対象ノード | — | 7nm 以下 | — | — | — | — | — | — | — |
| 測定対象 | — | — | — | — | デバイス上の特徴・専用の小型ターゲット | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | — | — | — | — | RDL 配線・ポスト・バンプの計測 | — | — |
| 信頼性 | — | — | — | — | — | — | — | MTBF 2,000 時間超 | — |
| 計測 | — | — | — | — | — | — | — | — | 露光前の全ウェハ・全ショットのグリッド歪み |
| 補正 | — | — | — | — | — | — | — | — | 露光装置へのフィードフォワード |
| 組み合わせ | — | — | — | — | — | — | — | — | 液浸スキャナー・ドライスキャナー |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •製品上の重ね合わせ管理
- •露光装置の認定・パターニング管理
掲載カテゴリ
ATL100は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
オーバーレイ計測装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）CIRCL™（マクロ検査装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）CAPRES CIPTech®（シート抵抗測定装置）MicroSense® PKMRAM（膜組成分析装置（XRF/FTIR））MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）Candela® 8420（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）Zeta™-5xx／6xx シリーズ（段差・表面粗さ測定装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07