NSR-S635E 是尼康的 ArF 浸潤式掃描式曝光機。為量產最先進的半導體而開發，整合了線上對準站（iAS）。
光源為波長 193nm 的 ArF 準分子雷射，數值孔徑 1.35，縮小倍率 1:4，最大曝光區域 26×33mm。解析度為 38nm 以下。
發揮 Streamlign 平台的效率，兼顧 MMO（Mix and Match Overlay）2.1nm 以下的疊對精度，以及 96 shot 下每小時 275 片以上的產能。尼康的產品線中也有後繼的 NSR-S636E（每小時 280 片以上）。