Pika PVD的特點與規格

Pika PVD 是應用材料的單晶圓式 PVD 設備。據廠商資料，這是業界最小、最快的單晶圓 PVD，設計用於以低持有成本進行高效能研發與少量生產。

在寬 1,657mm・深 755mm・高 1,822mm 的精巧機殼內，整合除氣、預清洗、濺鍍沉積模組與高真空傳送機械手臂，自動進行卡匣到卡匣的處理。稼動率超過 92%。

可選擇 DC、脈衝 DC、RF 濺鍍源，也支援金屬與反應性濺鍍、合金與氧化物的共濺鍍。可在矽、玻璃、有機材料、金屬、GaAs 等 III-V 族化合物基板上沉積單層・多層膜。