最後更新:2026年10月23日PVD 設備

Endura Ioniq W PVD的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・PVD 設備

以純鎢 PVD 膜兼作襯墊層與阻障層,並與 CVD W 一貫處理以降低接觸電阻的整合系統。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Endura Ioniq W PVD 是應用材料的鎢(W)接觸窗用整合材料解決方案。微縮使接觸窗變細時電阻增加,RC 延遲使速度下降,功耗也增加。

將傳統由 TiN 襯墊層、W 成核層、塊材 W 填充構成、電阻較高的多台設備組合,改為 1 層 PVD W 與塊材 CVD W 的一貫處理。這是首次將 CVD 與前處理腔體組合在 1 個高真空平台上的配置。

Ioniq PVD 腔體提高離子化程度並控制粒子方向,以均勻的階梯覆蓋率沉積純鎢膜。此膜即成為低電阻的阻障層兼襯墊層。

主要規格

方式將 PVD W+CVD W+前處理整合於 1 個高真空平台
取代對象TiN 襯墊層・W 成核層・塊材 W 的組合
主要用途各種接觸窗的金屬化

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以純 W 兼作襯墊層與阻障層
PVD W 與 CVD W 一貫處理
高離子化與方向性控制

主要用途

  • 邏輯・記憶體的接觸窗

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Endura Ioniq