Endura Ioniq W PVD 是應用材料的鎢(W)接觸窗用整合材料解決方案。微縮使接觸窗變細時電阻增加,RC 延遲使速度下降,功耗也增加。
將傳統由 TiN 襯墊層、W 成核層、塊材 W 填充構成、電阻較高的多台設備組合,改為 1 層 PVD W 與塊材 CVD W 的一貫處理。這是首次將 CVD 與前處理腔體組合在 1 個高真空平台上的配置。
Ioniq PVD 腔體提高離子化程度並控制粒子方向,以均勻的階梯覆蓋率沉積純鎢膜。此膜即成為低電阻的阻障層兼襯墊層。
以純鎢 PVD 膜兼作襯墊層與阻障層,並與 CVD W 一貫處理以降低接觸電阻的整合系統。
Endura Ioniq W PVD 是應用材料的鎢(W)接觸窗用整合材料解決方案。微縮使接觸窗變細時電阻增加,RC 延遲使速度下降,功耗也增加。
將傳統由 TiN 襯墊層、W 成核層、塊材 W 填充構成、電阻較高的多台設備組合,改為 1 層 PVD W 與塊材 CVD W 的一貫處理。這是首次將 CVD 與前處理腔體組合在 1 個高真空平台上的配置。
Ioniq PVD 腔體提高離子化程度並控制粒子方向,以均勻的階梯覆蓋率沉積純鎢膜。此膜即成為低電阻的阻障層兼襯墊層。
| 方式 | 將 PVD W+CVD W+前處理整合於 1 個高真空平台 |
|---|---|
| 取代對象 | TiN 襯墊層・W 成核層・塊材 W 的組合 |
| 主要用途 | 各種接觸窗的金屬化 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。