Endura Cirrus HTX PVD 是應用材料的氮化鈦（TiN）硬遮罩用 PVD 設備。製作導線時，TiN 一直被標準地用作將 Low-k 介電膜圖案化的硬遮罩。
在先進節點，為了降低電容而使 Low-k 膜更加多孔，膜變得脆弱，蝕刻後圖案容易變形。
Cirrus HTX 沉積可因應此課題的新型 TiN 硬遮罩，在 10nm 以後的節點也能維持圖案的保真度。
Endura Cirrus HTX PVD的特點與規格
應用材料（Applied Materials）・PVD 設備
面向 10nm 以後的導線圖案化，沉積低應變 TiN 硬遮罩的 PVD。
產品概要
主要規格
| 方式 | PVD（TiN 硬遮罩） |
|---|---|
| 對象世代 | 10nm 以後 |
| 主要用途 | Low-k 導線的圖案化 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
TiN 硬遮罩沉積
10nm 以後的圖案保真度
支援多孔 Low-k
主要用途
- 導線的圖案化
- Low-k 介電膜的加工
製造商與在台據點
在台據點
- 新竹據點（新竹科學園區）：1996 年進駐，技術研發中心
- 台南據點（台南）：製造中心與顯示器設備製造研發中心
- 林口・台中據點（林口・台中）：營運據點
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