Producer Celera PECVD
圧縮・引張の応力をチューニングできる高応力シリコン窒化膜を成膜するPECVDシステム。先端ノードの歪みエンジニアリングに用いられる。
Producer Celera PECVDとは
Producer Celera PECVD は、Applied Materials の高応力シリコン窒化膜用 PECVD システムです。トランジスタのチャネルに歪みを与えて移動度を上げる歪みエンジニアリング向けに、圧縮・引張の応力を調整できる窒化膜を成膜します。
窒化膜の成膜と UV キュアを一体化しており、低い熱履歴の要求を満たしながら最大 1.7GPa の引張応力を得られます。RF を拡張すれば同じチャンバーで最大 3.5GPa の圧縮応力の膜も成膜できます。
量産実績のあるシラン CVD 技術を使い、70% のステップカバレッジと水素含有量の少ない高品質な膜を得ながら、エッチストップとしての特性やパターンローディング特性も保ちます。プラットフォームは Twin Chamber 構成の Producer で、複数のノードにわたって装置を使い回せます。
主な特長
- •引張 最大 1.7GPa／圧縮 最大 3.5GPa の応力制御
- •窒化膜成膜と UV キュアを一体化（低熱履歴）
- •ステップカバレッジ 70%、低水素の高品質膜
- •Producer プラットフォーム（Twin Chamber）
主な仕様
| プラットフォーム | Applied Producer |
|---|---|
| 対応膜種 | 高応力シリコン窒化膜（圧縮／引張） |
| 制御項目 | 膜応力のチューニング |
| 主要用途 | 先端ノードの歪みエンジニアリング |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsProducer Celera PECVD | Applied MaterialsProducer Precision APF PECVD | Lam ResearchVECTOR®（PECVD） |
|---|---|---|---|
| 主要用途 | 先端ノードの歪みエンジニアリング | DRAM・NAND・ロジックのパターニング | 層間絶縁膜・ハードマスクの成膜 |
| プラットフォーム | Applied Producer | Applied Producer | — |
| 対応膜種 | 高応力シリコン窒化膜（圧縮／引張） | アモルファスカーボン ハードマスク（APF） | — |
1機種だけが掲載している項目（6件）
| 制御項目 | 膜応力のチューニング | — | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 剥離可能なハードマスク膜 | — |
| 構成 | — | — | マルチステーション（300 mm 機は 4 ステーション） |
| 200 mm 機 | — | — | Sequel（6 ステーション） |
| 関連機種 | — | — | VECTOR Strata（3D NAND向け／2014年）（派生機種） |
| 初期リリース | — | — | 2000年 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •先端ロジックの歪みエンジニアリング（応力ライナー）
- •SiN エッチストップ層
掲載カテゴリ
Producer Celera PECVDは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Applied Materials
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-05