Prestis 是科林研發（Lam Research）的 PVD 設備。適合沉積複雜材料，特別是 AlScN（氮化鋁鈧）之類的陶瓷。
可獲得兼具高壓電性能與低介電損耗的優異膜質，也能調整晶圓內膜厚與應力的均勻性。
可沿用既有的 2300 傳送模組，與科林研發的蝕刻設備等也有綜效。用於 RF MEMS、MEMS 麥克風、壓電微機械超音波換能器（PMUT）、微型揚聲器用的 AlScN 層。
Prestis的特點與規格
科林研發（Lam Research）・PVD 設備
沉積 AlScN 等陶瓷壓電膜的科林研發 PVD。用於 RF MEMS 與 MEMS 麥克風。
產品概要
主要規格
| 方式 | PVD（壓電陶瓷膜） |
|---|---|
| 膜種 | AlScN 等 |
| 主要用途 | RF MEMS・MEMS 麥克風・PMUT・微型揚聲器 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
AlScN 等壓電陶瓷膜
高壓電性能・低介電損耗
可調整膜厚・應力均勻性
主要用途
- RF MEMS 濾波器
- MEMS 麥克風・PMUT
製造商與在台據點
在台據點
- 新竹據點（新竹）：1996 年成立的台灣技術訓練中心
- Lam Research Manufacturing（桃園市中壢區）：2016 年成立的製造子公司與全球翻新中心
- 台南據點（台南）：支援南部客戶的辦公室與訓練教室
所屬設備分類
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