廃水処理設備メーカー3社
廃水処理設備は、洗浄・エッチング・CMPで生じた排水を、法規制値まで処理してから放流または再利用するための設備です。フッ素含有排水はカルシウム化合物として沈殿分離し、酸アルカリ排水は中和、CMP排水は凝集沈殿とろ過で微粒子を除きます。半導体工場は大量の超純水を使うため排水量も大きく、処理コストと水資源の両面から回収・再利用の比率を上げることが重要になります。使用する薬液の種類ごとに排水系統を分ける分別回収が、処理効率を決める前提条件です。
主要特徴
メーカー
3社の主要メーカー
水処理・超純水製造装置の国内大手メーカー。半導体ファブ向けの超純水（UPW）製造システムを中心に、排水処理まで一貫した水処理ソリューションを提供する。
- •超純水製造装置で国内トップクラス
- •半導体ファブ向け水処理インフラに強み
CMP（化学機械研磨）装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。
- •CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
- •ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
超純水製造装置の専業メーカー。半導体・液晶パネル工場向けに超純水製造システムの設計・施工とメンテナンスを行い、使用済み水の回収・排水処理設備も手がける。国内に加え韓国・台湾・中国の工場への納入実績を持つ。
- •超純水に特化した専業メーカー
- •設計・施工からメンテナンスまで一貫対応
関連カテゴリ
排ガス処理装置（アバトメントシステム）は、半導体製造プロセスで発生する有害副生成物・未反応ガスを大気放出前に無害化する環境・安全設備です。
メーカー 4 社薬液供給システム薬液供給システム（Chemical Delivery System）は、ウェハ洗浄・エッチング・CMP・フォトレジスト塗布など前工程の各装置に、高純度薬液（HF・硫酸・SC-1/SC-2洗浄液・現像液など）を精密に計量・混合して供給するファブインフラ設備です。
メーカー 5 社クリーンルーム部材クリーンルーム部材は、建屋そのものではなく、清浄度を実際に作り出して維持する部材のカテゴリです。
メーカー 8 社クリーンルーム設備クリーンルーム設備は、半導体製造において最大の歩留まり阻害要因であるパーティクル（微粒子）を徹底的に除去・制御するための空調・ろ過・気流制御システムです。
メーカー 3 社工場設備ファブ設備は、半導体工場の安定稼働を支える電力・超純水（UPW）・特殊ガス・薬液・排気・排水処理などの総合インフラ設備群です。
メーカー 5 社ガス供給・検知システムガス供給・検知システムは、ファブ全体へガスを届け、その純度と安全を守る設備のカテゴリです。
メーカー 7 社高純度配管・工事高純度配管・工事は、超純水・薬液・特殊ガスをファブ内の各装置へ届ける配管系統の施工技術です。
メーカー 5 社シールドルーム・防振建屋シールドルーム・防振建屋は、電磁ノイズと振動という外乱から精密装置を守るための構造設備です。
メーカー 3 社超純水製造システム超純水（UPW：Ultrapure Water）製造システムは、半導体ウェハの洗浄工程で使用する水を超高純度に精製するファブインフラ設備です。
メーカー 4 社