Onto Innovation/ウェハレベルパッケージング

Dragonfly® G5

先端パッケージのインライン工程管理向けの Dragonfly シリーズ最新のパターン検査装置。前機種比 3 倍以上のスループット。

Dragonfly G5とは

Dragonfly G5 は、Onto Innovation の先端パッケージのインライン工程管理向けの検査装置です。Dragonfly シリーズの最新世代のパターン検査装置で、サブミクロンの欠陥の検出と高解像度の 3D 計測を行います。

先端の半導体技術の要求に応え、複雑なヘテロジニアス集積の工程全体で高性能で信頼性の高い検査と計測を行うように作られています。

次世代の高速ラインスキャンの 2D イメージングと専用設計の対物レンズで、前機種より 3 倍以上のスループット向上と、150nm までのサブミクロンの感度を実現しました。

主な特長

  • •150nm までの感度
  • •スループット 3 倍以上
  • •2D 検査+3D 計測

主な仕様

方式高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測
感度サブミクロン(150nm まで)
スループット前機種比 3 倍以上

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Applied MaterialsCharger® UBM PVDApplied MaterialsEndura® Underbump Metallization PVDApplied MaterialsTopaz™ PVDLam ResearchTriton(枚葉めっき・ウェット処理)Lam ResearchKallisto(パネル ECD)Lam ResearchPhoenix(パネル処理)KLAKronos™ 1190XRDISCODAS8930(サーフェースプレーナ)DISCODFS8960(サーフェースプレーナ)Onto InnovationPrimaScan™ POnto InnovationDragonfly® G5Onto InnovationFirefly® G5BesiDatacon 8800 CHAMEO advancedキヤノン(Canon)FPA-5520iVキヤノン(Canon)FPA-8000iW
方式PVD(リニアアーキテクチャ)PVD(後工程パッケージング)—枚葉電解めっき・ウェット処理縦型のウェット処理・電解めっき—高解像度光学のパターン付きウェーハ検査ダイヤモンドバイト切削平坦化(1 軸 1 チャックテーブル)ダイヤモンドバイト切削平坦化(2 軸 2 チャックテーブル・搬送/洗浄付き)レーザー走査+イメージング高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージングフェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ——
対応基板——最大 600 × 600 mm3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル300 × 300mm〜1,100 × 1,300mm(Gen 5.1)・厚さ 200µm の薄ガラス510 × 515 mm パネル(薄ガラス対応)—————————
主要用途——PLP・ガラス/有機インターポーザ・部品内蔵基板—パッケージ基板・パネルレベルファンアウトパネル上のバンプ・RDL・TGV めっき———ガラスパネルの受け入れ品質管理—————
対象—————————ガラスパネル基板(AICS・FOPLP)—先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ—FOWLP の再構成基板—
ラインアップ———Triton CX・Triton CM—Phoenix VRT(レジスト処理)・ECD(めっき)・VCA(洗浄)—————————
加工精度———————TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角)TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角)——————
1機種だけが掲載している項目(19件)
対象金属Ti・TiW・Cu・NiV など——————————————
構成3 チャンバーから 5 チャンバーへ拡張可能・Volaris プリクリーン——————————————
膜種—NiV・Cu・Ti・TiW・CuCr・TaN・Al—————————————
膜厚範囲—1,000Å 未満〜1µm 超—————————————
基板温度——120℃ 未満————————————
検出感度——————150nm まで————————
特徴——————DefectWise AI・DesignWise・広い厚さ範囲(XR)————————
面粗さ———————Ra 0.02µm 以下———————
装置寸法————————1,400 × 3,356 × 1,870 mm——————
感度——————————サブミクロン(150nm まで)————
スループット——————————前機種比 3 倍以上————
機能———————————2D/3D 計測・カラー画像取得———
用途————————————FO-WLP のチップアタッチ——
速度————————————最大 +40%——
搬送—————————————反りに合わせて変形するフレキシブルパッド—
オプション—————————————HR(高解像力)・LF/LF2(広画角)—
解像力——————————————1.0µm 以下
基板サイズ——————————————515 × 510mm(最大 515 × 515mm)
画面サイズ——————————————52 × 68mm または 55 × 65mm

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •ヘテロジニアス集積の工程管理
  • •先端パッケージの欠陥検査

掲載カテゴリ

Dragonfly G5は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Onto Innovation

Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。

Onto Innovation の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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