Besi/ウェハレベルパッケージング

Datacon 8800 CHAMEO advanced

ウェーハレベルのファンアウトパッケージ(FO-WLP)のチップアタッチ向けのボンダー。フェイスダウン・フェイスアップの両方に対応する。

Datacon 8800 CHAMEO advancedとは

Datacon 8800 CHAMEO advanced は、Besi のウェーハレベルのファンアウトパッケージ(FO-WLP)向けのボンダーです。FO-WLP は性能、形状、反りの管理への要求に応える、コスト効率のよい先端パッケージ技術です。

実績のあるプラットフォームを一段と進化させ、あらゆる FO-WLP の工程のチップアタッチに使えます。フェイスダウン(フリップモード)とフェイスアップ(ノンフリップモード)の両方のパッケージ設計に対応します。

小さな設置面積でマルチチップの柔軟性を持ち、1 回の工程で複数のフリップチップを載せて Cpk を改善します。ワッフルパックのフィーダーにも対応し、速度は最大 40% 向上しました。リードフレーム、ストリップ、ボート、ウェーハなど基板を選びません。

主な特長

  • •FO-WLP のチップアタッチ
  • •フェイスダウン/フェイスアップ
  • •速度最大 +40%

主な仕様

用途FO-WLP のチップアタッチ
方式フェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ
速度最大 +40%

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Applied MaterialsCharger® UBM PVDApplied MaterialsEndura® Underbump Metallization PVDApplied MaterialsTopaz™ PVDLam ResearchTriton(枚葉めっき・ウェット処理)Lam ResearchKallisto(パネル ECD)Lam ResearchPhoenix(パネル処理)KLAKronos™ 1190XRDISCODAS8930(サーフェースプレーナ)DISCODFS8960(サーフェースプレーナ)Onto InnovationPrimaScan™ POnto InnovationDragonfly® G5Onto InnovationFirefly® G5BesiDatacon 8800 CHAMEO advancedキヤノン(Canon)FPA-5520iVキヤノン(Canon)FPA-8000iW
方式PVD(リニアアーキテクチャ)PVD(後工程パッケージング)—枚葉電解めっき・ウェット処理縦型のウェット処理・電解めっき—高解像度光学のパターン付きウェーハ検査ダイヤモンドバイト切削平坦化(1 軸 1 チャックテーブル)ダイヤモンドバイト切削平坦化(2 軸 2 チャックテーブル・搬送/洗浄付き)レーザー走査+イメージング高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージングフェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ——
対応基板——最大 600 × 600 mm3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル300 × 300mm〜1,100 × 1,300mm(Gen 5.1)・厚さ 200µm の薄ガラス510 × 515 mm パネル(薄ガラス対応)—————————
主要用途——PLP・ガラス/有機インターポーザ・部品内蔵基板—パッケージ基板・パネルレベルファンアウトパネル上のバンプ・RDL・TGV めっき———ガラスパネルの受け入れ品質管理—————
対象—————————ガラスパネル基板(AICS・FOPLP)—先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ—FOWLP の再構成基板—
ラインアップ———Triton CX・Triton CM—Phoenix VRT(レジスト処理)・ECD(めっき)・VCA(洗浄)—————————
加工精度———————TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角)TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角)——————
1機種だけが掲載している項目(19件)
対象金属Ti・TiW・Cu・NiV など——————————————
構成3 チャンバーから 5 チャンバーへ拡張可能・Volaris プリクリーン——————————————
膜種—NiV・Cu・Ti・TiW・CuCr・TaN・Al—————————————
膜厚範囲—1,000Å 未満〜1µm 超—————————————
基板温度——120℃ 未満————————————
検出感度——————150nm まで————————
特徴——————DefectWise AI・DesignWise・広い厚さ範囲(XR)————————
面粗さ———————Ra 0.02µm 以下———————
装置寸法————————1,400 × 3,356 × 1,870 mm——————
感度——————————サブミクロン(150nm まで)————
スループット——————————前機種比 3 倍以上————
機能———————————2D/3D 計測・カラー画像取得———
用途————————————FO-WLP のチップアタッチ——
速度————————————最大 +40%——
搬送—————————————反りに合わせて変形するフレキシブルパッド—
オプション—————————————HR(高解像力)・LF/LF2(広画角)—
解像力——————————————1.0µm 以下
基板サイズ——————————————515 × 510mm(最大 515 × 515mm)
画面サイズ——————————————52 × 68mm または 55 × 65mm

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •ファンアウト WLP

掲載カテゴリ

Datacon 8800 CHAMEO advancedは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Besi

オランダを拠点とする半導体組立装置の世界的リーダー。ダイアタッチ装置で42%の市場シェアを持ち、ハイブリッドボンディング技術で業界をリード。

Besi の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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