Datacon 8800 CHAMEO advanced
ウェーハレベルのファンアウトパッケージ(FO-WLP)のチップアタッチ向けのボンダー。フェイスダウン・フェイスアップの両方に対応する。
Datacon 8800 CHAMEO advancedとは
Datacon 8800 CHAMEO advanced は、Besi のウェーハレベルのファンアウトパッケージ(FO-WLP)向けのボンダーです。FO-WLP は性能、形状、反りの管理への要求に応える、コスト効率のよい先端パッケージ技術です。
実績のあるプラットフォームを一段と進化させ、あらゆる FO-WLP の工程のチップアタッチに使えます。フェイスダウン(フリップモード)とフェイスアップ(ノンフリップモード)の両方のパッケージ設計に対応します。
小さな設置面積でマルチチップの柔軟性を持ち、1 回の工程で複数のフリップチップを載せて Cpk を改善します。ワッフルパックのフィーダーにも対応し、速度は最大 40% 向上しました。リードフレーム、ストリップ、ボート、ウェーハなど基板を選びません。
主な特長
- •FO-WLP のチップアタッチ
- •フェイスダウン/フェイスアップ
- •速度最大 +40%
主な仕様
| 用途 | FO-WLP のチップアタッチ |
|---|---|
| 方式 | フェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ |
| 速度 | 最大 +40% |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsCharger® UBM PVD | Applied MaterialsEndura® Underbump Metallization PVD | Applied MaterialsTopaz™ PVD | Lam ResearchTriton(枚葉めっき・ウェット処理) | Lam ResearchKallisto(パネル ECD) | Lam ResearchPhoenix(パネル処理) | KLAKronos™ 1190XR | DISCODAS8930(サーフェースプレーナ) | DISCODFS8960(サーフェースプレーナ) | Onto InnovationPrimaScan™ P | Onto InnovationDragonfly® G5 | Onto InnovationFirefly® G5 | BesiDatacon 8800 CHAMEO advanced | キヤノン(Canon)FPA-5520iV | キヤノン(Canon)FPA-8000iW |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | PVD(リニアアーキテクチャ) | PVD(後工程パッケージング) | — | 枚葉電解めっき・ウェット処理 | 縦型のウェット処理・電解めっき | — | 高解像度光学のパターン付きウェーハ検査 | ダイヤモンドバイト切削平坦化(1 軸 1 チャックテーブル) | ダイヤモンドバイト切削平坦化(2 軸 2 チャックテーブル・搬送/洗浄付き) | レーザー走査+イメージング | 高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測 | 複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージング | フェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ | — | — |
| 対応基板 | — | — | 最大 600 × 600 mm | 3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル | 300 × 300mm〜1,100 × 1,300mm(Gen 5.1)・厚さ 200µm の薄ガラス | 510 × 515 mm パネル(薄ガラス対応) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | PLP・ガラス/有機インターポーザ・部品内蔵基板 | — | パッケージ基板・パネルレベルファンアウト | パネル上のバンプ・RDL・TGV めっき | — | — | — | ガラスパネルの受け入れ品質管理 | — | — | — | — | — |
| 対象 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | ガラスパネル基板(AICS・FOPLP) | — | 先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ | — | FOWLP の再構成基板 | — |
| ラインアップ | — | — | — | Triton CX・Triton CM | — | Phoenix VRT(レジスト処理)・ECD(めっき)・VCA(洗浄) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 加工精度 | — | — | — | — | — | — | — | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | — | — | — | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(19件)
| 対象金属 | Ti・TiW・Cu・NiV など | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 構成 | 3 チャンバーから 5 チャンバーへ拡張可能・Volaris プリクリーン | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜種 | — | NiV・Cu・Ti・TiW・CuCr・TaN・Al | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜厚範囲 | — | 1,000Å 未満〜1µm 超 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 基板温度 | — | — | 120℃ 未満 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 検出感度 | — | — | — | — | — | — | 150nm まで | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 特徴 | — | — | — | — | — | — | DefectWise AI・DesignWise・広い厚さ範囲(XR) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 面粗さ | — | — | — | — | — | — | — | Ra 0.02µm 以下 | — | — | — | — | — | — | — |
| 装置寸法 | — | — | — | — | — | — | — | — | 1,400 × 3,356 × 1,870 mm | — | — | — | — | — | — |
| 感度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | サブミクロン(150nm まで) | — | — | — | — |
| スループット | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 前機種比 3 倍以上 | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 2D/3D 計測・カラー画像取得 | — | — | — |
| 用途 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | FO-WLP のチップアタッチ | — | — |
| 速度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 最大 +40% | — | — |
| 搬送 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 反りに合わせて変形するフレキシブルパッド | — |
| オプション | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | HR(高解像力)・LF/LF2(広画角) | — |
| 解像力 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 1.0µm 以下 |
| 基板サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 515 × 510mm(最大 515 × 515mm) |
| 画面サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 52 × 68mm または 55 × 65mm |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ファンアウト WLP
掲載カテゴリ
Datacon 8800 CHAMEO advancedは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Besi
オランダを拠点とする半導体組立装置の世界的リーダー。ダイアタッチ装置で42%の市場シェアを持ち、ハイブリッドボンディング技術で業界をリード。
ウェハレベルパッケージングのほかの製品
DSC300 Gen3(Suss MicroTec)XBS300 W2W(Suss MicroTec)LITHOSCALE® XT(EV Group)GEMINI® FB XT(EV Group)Charger® UBM PVD(Applied Materials)Endura® Underbump Metallization PVD(Applied Materials)Topaz™ PVD(Applied Materials)Triton(枚葉めっき・ウェット処理)(Lam Research)Kallisto(パネル ECD)(Lam Research)Phoenix(パネル処理)(Lam Research)Kronos™ 1190XR(KLA)DAS8930(サーフェースプレーナ)(DISCO)DFS8960(サーフェースプレーナ)(DISCO)PrimaScan™ P(Onto Innovation)Dragonfly® G5(Onto Innovation)Firefly® G5(Onto Innovation)FPA-5520iV(キヤノン(Canon))FPA-8000iW(キヤノン(Canon))
Besiのほかの製品
9800 TC next(HBM(高帯域幅メモリ))Esec 2100 hS iXplus(ダイボンダー)(ダイボンダー)Datacon 8800 FC QUANTUM advanced(フリップチップボンダー)Fico Molding Line(FML)(封止装置(モールディング))Datacon 8800 CHAMEO ultra plus AC(チップレット実装装置)Datacon 2200 evo(ダイボンダー)Datacon 2200 evo plus(ダイボンダー)Datacon 2200 evo hF(ダイボンダー)Datacon 2200 evo advanced(ダイボンダー)Esec 2100 sD advanced i(ダイボンダー)Esec 2100 hSi(ダイボンダー)Esec 2100 SC(ダイボンダー)Esec 2100 SSI(パワー半導体)Esec 2009 SSIE(パワー半導体)Esec 2009 fSE(パワー半導体)Datacon 8800 FC QUANTUM advX(フリップチップボンダー)Esec 2100 FC hS(フリップチップボンダー)AMS-X(封止装置(モールディング))MMS-X(封止装置(モールディング))Fico AMS-LM(封止装置(モールディング))Fico MMS-LM(封止装置(モールディング))Fico AMS-i(封止装置(モールディング))Fico Compact Line - X(トリム&フォーム)(封止装置(モールディング))Fico Sawing Line(ダイシングソー)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07