Firefly® G5
先端 IC 基板とパネルレベルパッケージ向けの自動検査・3D 計測装置。Clearfind 技術で残渣・金属欠陥を検出する。
Firefly G5とは
Firefly G5 は、Onto Innovation の先端 IC 基板とパネルレベルパッケージ向けの自動検査・3D 計測装置です。HPC、AI、クラウド、機械学習などの厳しい用途に向けて、高い解像度と生産性を持ちます。
Firefly シリーズの最新プラットフォームで、金属上の残渣や有機層上の金属欠陥を見つける特許の Clearfind 技術を含む複数のイメージングモードを持ちます。
スループットと感度を高め、新しい高速 IR イメージングで埋め込まれた欠陥を狙います。高感度の検査、2D/3D 計測、装置上でのカラー画像取得を 1 つのプラットフォームにまとめています。
主な特長
- •Clearfind 技術
- •高速 IR イメージング
- •検査と 2D/3D 計測を統合
主な仕様
| 対象 | 先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ |
|---|---|
| 方式 | 複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージング |
| 機能 | 2D/3D 計測・カラー画像取得 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsCharger® UBM PVD | Applied MaterialsEndura® Underbump Metallization PVD | Applied MaterialsTopaz™ PVD | Lam ResearchTriton(枚葉めっき・ウェット処理) | Lam ResearchKallisto(パネル ECD) | Lam ResearchPhoenix(パネル処理) | KLAKronos™ 1190XR | DISCODAS8930(サーフェースプレーナ) | DISCODFS8960(サーフェースプレーナ) | Onto InnovationPrimaScan™ P | Onto InnovationDragonfly® G5 | Onto InnovationFirefly® G5 | BesiDatacon 8800 CHAMEO advanced | キヤノン(Canon)FPA-5520iV | キヤノン(Canon)FPA-8000iW |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | PVD(リニアアーキテクチャ) | PVD(後工程パッケージング) | — | 枚葉電解めっき・ウェット処理 | 縦型のウェット処理・電解めっき | — | 高解像度光学のパターン付きウェーハ検査 | ダイヤモンドバイト切削平坦化(1 軸 1 チャックテーブル) | ダイヤモンドバイト切削平坦化(2 軸 2 チャックテーブル・搬送/洗浄付き) | レーザー走査+イメージング | 高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測 | 複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージング | フェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ | — | — |
| 対応基板 | — | — | 最大 600 × 600 mm | 3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル | 300 × 300mm〜1,100 × 1,300mm(Gen 5.1)・厚さ 200µm の薄ガラス | 510 × 515 mm パネル(薄ガラス対応) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | PLP・ガラス/有機インターポーザ・部品内蔵基板 | — | パッケージ基板・パネルレベルファンアウト | パネル上のバンプ・RDL・TGV めっき | — | — | — | ガラスパネルの受け入れ品質管理 | — | — | — | — | — |
| 対象 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | ガラスパネル基板(AICS・FOPLP) | — | 先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ | — | FOWLP の再構成基板 | — |
| ラインアップ | — | — | — | Triton CX・Triton CM | — | Phoenix VRT(レジスト処理)・ECD(めっき)・VCA(洗浄) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 加工精度 | — | — | — | — | — | — | — | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | — | — | — | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(19件)
| 対象金属 | Ti・TiW・Cu・NiV など | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 構成 | 3 チャンバーから 5 チャンバーへ拡張可能・Volaris プリクリーン | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜種 | — | NiV・Cu・Ti・TiW・CuCr・TaN・Al | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜厚範囲 | — | 1,000Å 未満〜1µm 超 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 基板温度 | — | — | 120℃ 未満 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 検出感度 | — | — | — | — | — | — | 150nm まで | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 特徴 | — | — | — | — | — | — | DefectWise AI・DesignWise・広い厚さ範囲(XR) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 面粗さ | — | — | — | — | — | — | — | Ra 0.02µm 以下 | — | — | — | — | — | — | — |
| 装置寸法 | — | — | — | — | — | — | — | — | 1,400 × 3,356 × 1,870 mm | — | — | — | — | — | — |
| 感度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | サブミクロン(150nm まで) | — | — | — | — |
| スループット | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 前機種比 3 倍以上 | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 2D/3D 計測・カラー画像取得 | — | — | — |
| 用途 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | FO-WLP のチップアタッチ | — | — |
| 速度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 最大 +40% | — | — |
| 搬送 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 反りに合わせて変形するフレキシブルパッド | — |
| オプション | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | HR(高解像力)・LF/LF2(広画角) | — |
| 解像力 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 1.0µm 以下 |
| 基板サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 515 × 510mm(最大 515 × 515mm) |
| 画面サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 52 × 68mm または 55 × 65mm |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •先端 IC 基板の検査
- •パネルレベルパッケージ
掲載カテゴリ
Firefly G5は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
ウェハレベルパッケージングのほかの製品
DSC300 Gen3(Suss MicroTec)XBS300 W2W(Suss MicroTec)LITHOSCALE® XT(EV Group)GEMINI® FB XT(EV Group)Charger® UBM PVD(Applied Materials)Endura® Underbump Metallization PVD(Applied Materials)Topaz™ PVD(Applied Materials)Triton(枚葉めっき・ウェット処理)(Lam Research)Kallisto(パネル ECD)(Lam Research)Phoenix(パネル処理)(Lam Research)Kronos™ 1190XR(KLA)DAS8930(サーフェースプレーナ)(DISCO)DFS8960(サーフェースプレーナ)(DISCO)PrimaScan™ P(Onto Innovation)Dragonfly® G5(Onto Innovation)Datacon 8800 CHAMEO advanced(Besi)FPA-5520iV(キヤノン(Canon))FPA-8000iW(キヤノン(Canon))
Onto Innovationのほかの製品
Dragonfly® G3(ウェハ検査装置)NSX® 330(マクロ検査装置)Iris™ G2(膜厚計測装置)Atlas® V(光学式寸法測定装置(OCD))PrimaScan™(異物・パーティクル検査装置)PrimaScan™ P(ウェハレベルパッケージング)IVS 380(オーバーレイ計測装置)IVS 280(オーバーレイ計測装置)Celero™ PL(結晶欠陥検査装置)PrecisionWoRx® VX4(プローブカード)F30™(マクロ検査装置)Atlas® G6(光学式寸法測定装置(OCD))Atlas® III+(光学式寸法測定装置(OCD))JetStep® X500(i線ステッパー)JetStep® S3500(i線ステッパー)IMPULSE®+(膜厚計測装置)IMPULSE® V(膜厚計測装置)Echo™(膜厚計測装置)NovusEdge® G2(ウェハ基板検査装置)FAaST® CV/IV(膜組成分析装置(XRF/FTIR))FAaST® Digital SPV(異物・汚染分析装置)CnCV®(化合物半導体)Element™ S(膜組成分析装置(XRF/FTIR))Element™ G2(膜組成分析装置(XRF/FTIR))Aspect®(光学式寸法測定装置(OCD))Aspect® S(光学式寸法測定装置(OCD))Iris™ S(膜厚計測装置)Dragonfly® G5(ウェハレベルパッケージング)EB40™(マクロ検査装置)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07