Triton(枚葉めっき・ウェット処理)
枚葉のめっきとウェット処理を 1 台で行うモジュール型プラットフォーム。3 インチから 300mm、300 × 300mm のパネルまで扱う。
Tritonとは
Triton は、Lam Research の枚葉めっきとウェット処理のためのモジュール型プラットフォームです。研究開発に最適で、量産にも拡張できます。酸と溶剤の処理を 1 台で行えるため、さまざまな工程を最小のスペースでこなせます。
特許の高速めっき技術で、微細配線のめっきに求められる優れた均一性と歩留まりを実現します。3 インチから 300mm のウェーハ、300 × 300mm のパネルまで、異なるサイズの基板を同じプラットフォームで処理できます。
終点監視、オンラインの薬液補給と監視への対応、工程と工場に合わせた装置レイアウトの設計が可能です。バンプ、ピラー、パッド、RDL、TSV への Cu・Ni・SnAg・Au などのめっきや、めっきの除去、金属・UBM・酸化膜のエッチングに使われます。Triton CX と Triton CM があります。
主な特長
- •めっき+ウェット処理を 1 台で
- •3 インチ〜300mm・パネル対応
- •特許の高速めっき技術
主な仕様
| 方式 | 枚葉電解めっき・ウェット処理 |
|---|---|
| 対応基板 | 3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル |
| ラインアップ | Triton CX・Triton CM |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsCharger® UBM PVD | Applied MaterialsEndura® Underbump Metallization PVD | Applied MaterialsTopaz™ PVD | Lam ResearchTriton(枚葉めっき・ウェット処理) | Lam ResearchKallisto(パネル ECD) | Lam ResearchPhoenix(パネル処理) | KLAKronos™ 1190XR | DISCODAS8930(サーフェースプレーナ) | DISCODFS8960(サーフェースプレーナ) | Onto InnovationPrimaScan™ P | Onto InnovationDragonfly® G5 | Onto InnovationFirefly® G5 | BesiDatacon 8800 CHAMEO advanced | キヤノン(Canon)FPA-5520iV | キヤノン(Canon)FPA-8000iW |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | PVD(リニアアーキテクチャ) | PVD(後工程パッケージング) | — | 枚葉電解めっき・ウェット処理 | 縦型のウェット処理・電解めっき | — | 高解像度光学のパターン付きウェーハ検査 | ダイヤモンドバイト切削平坦化(1 軸 1 チャックテーブル) | ダイヤモンドバイト切削平坦化(2 軸 2 チャックテーブル・搬送/洗浄付き) | レーザー走査+イメージング | 高速ラインスキャン 2D イメージング+3D 計測 | 複数のイメージングモード(Clearfind)・高速 IR イメージング | フェイスダウン(フリップ)・フェイスアップ | — | — |
| 対応基板 | — | — | 最大 600 × 600 mm | 3 インチ〜300mm ウェーハ、300 × 300mm パネル | 300 × 300mm〜1,100 × 1,300mm(Gen 5.1)・厚さ 200µm の薄ガラス | 510 × 515 mm パネル(薄ガラス対応) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | PLP・ガラス/有機インターポーザ・部品内蔵基板 | — | パッケージ基板・パネルレベルファンアウト | パネル上のバンプ・RDL・TGV めっき | — | — | — | ガラスパネルの受け入れ品質管理 | — | — | — | — | — |
| 対象 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | ガラスパネル基板(AICS・FOPLP) | — | 先端 IC 基板・パネルレベルパッケージ | — | FOWLP の再構成基板 | — |
| ラインアップ | — | — | — | Triton CX・Triton CM | — | Phoenix VRT(レジスト処理)・ECD(めっき)・VCA(洗浄) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 加工精度 | — | — | — | — | — | — | — | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | TTV 3.0µm 以下・バンプ高さばらつき 1.0µm 以下(5mm 角) | — | — | — | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(19件)
| 対象金属 | Ti・TiW・Cu・NiV など | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 構成 | 3 チャンバーから 5 チャンバーへ拡張可能・Volaris プリクリーン | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜種 | — | NiV・Cu・Ti・TiW・CuCr・TaN・Al | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 膜厚範囲 | — | 1,000Å 未満〜1µm 超 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 基板温度 | — | — | 120℃ 未満 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 検出感度 | — | — | — | — | — | — | 150nm まで | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 特徴 | — | — | — | — | — | — | DefectWise AI・DesignWise・広い厚さ範囲(XR) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 面粗さ | — | — | — | — | — | — | — | Ra 0.02µm 以下 | — | — | — | — | — | — | — |
| 装置寸法 | — | — | — | — | — | — | — | — | 1,400 × 3,356 × 1,870 mm | — | — | — | — | — | — |
| 感度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | サブミクロン(150nm まで) | — | — | — | — |
| スループット | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 前機種比 3 倍以上 | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 2D/3D 計測・カラー画像取得 | — | — | — |
| 用途 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | FO-WLP のチップアタッチ | — | — |
| 速度 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 最大 +40% | — | — |
| 搬送 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 反りに合わせて変形するフレキシブルパッド | — |
| オプション | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | HR(高解像力)・LF/LF2(広画角) | — |
| 解像力 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 1.0µm 以下 |
| 基板サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 515 × 510mm(最大 515 × 515mm) |
| 画面サイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 52 × 68mm または 55 × 65mm |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •バンプ・ピラー・RDL・TSV のめっき
- •UBM エッチング
掲載カテゴリ
Tritonは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Lam Research
エッチング装置の世界的リーダー。約39%の市場シェアを持ち、原子層エッチング(ALE)技術で先端3Dチップアーキテクチャを支える。
ウェハレベルパッケージングのほかの製品
DSC300 Gen3(Suss MicroTec)XBS300 W2W(Suss MicroTec)LITHOSCALE® XT(EV Group)GEMINI® FB XT(EV Group)Charger® UBM PVD(Applied Materials)Endura® Underbump Metallization PVD(Applied Materials)Topaz™ PVD(Applied Materials)Kallisto(パネル ECD)(Lam Research)Phoenix(パネル処理)(Lam Research)Kronos™ 1190XR(KLA)DAS8930(サーフェースプレーナ)(DISCO)DFS8960(サーフェースプレーナ)(DISCO)PrimaScan™ P(Onto Innovation)Dragonfly® G5(Onto Innovation)Firefly® G5(Onto Innovation)Datacon 8800 CHAMEO advanced(Besi)FPA-5520iV(キヤノン(Canon))FPA-8000iW(キヤノン(Canon))
Lam Researchのほかの製品
Kiyo®(コンダクタエッチング)(ドライエッチング装置)Flex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Versys® Metal(金属エッチャー)Sense.i®(材料別エッチャー)Selective Etch(Argos®/Prevos®/Selis®)(ドライ洗浄装置)Striker®(枚葉ALD)(ALD装置)VECTOR®(PECVD)(CVD装置)SABRE® 3D(めっき装置(電解銅めっき))Syndion®(深堀りシリコンエッチング)(CMOSイメージセンサー製造装置)SABRE®(銅 ECD)(めっき装置(電解銅めっき))Coronus®(ベベルエッチング・成膜)(ドライエッチング装置)EOS®(ウェット洗浄)(シングルウェハ洗浄装置)DV-Prime®/Da Vinci®(シングルウェハ洗浄装置)SP Series(SP203L/SP223/SP323)(ウェットエッチング装置)Akara®(ドライエッチング装置)Kallisto(パネル ECD)(ウェハレベルパッケージング)Phoenix(パネル処理)(ウェハレベルパッケージング)ALTUS®(W/Mo の CVD・ALD)(CVD装置)SPEED®(HDP-CVD)(CVD装置)GAMMA®(ストリップ)(アッシング装置(レジスト灰化))SOLA®(UV 熱処理)(アニール炉)Vantex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Metior®(質量計測)(膜厚計測装置)Prestis™(AlScN PVD)(PVD装置)DSiE™(深堀りシリコンエッチング)(MEMS)SEMulator3D®(品質・歩留まり管理システム(YMS))Fabtex™ Yield Optimizer(品質・歩留まり管理システム(YMS))
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07