ナノ・プローバ® NP8000

SEM 観察しながら数十 nm 径のプローブを素子に当て、トランジスタの電気特性を測る微小デバイス特性評価装置。5nm 以降のノードを想定している。

ナノ・プローバ NP8000とは

NP8000 は、日立ハイテクの SEM ベースのナノプロービングシステムです。5nm ノード以降の解析ニーズに応えるために設計され、ナノスケールのデバイスの電気特性、EBAC、EBIC、パルス IV、温度依存性を評価できます。

新しい電子光学系と新しいショットキー電子銃により、100V 未満の超低加速電圧でも鮮明な像が得られ、観察時の試料ダメージを減らします。プローブは 8 本で、プローブ電流を高めて EBAC（電子ビーム吸収電流）像の画質を改善しました。電圧を印加して欠陥を可視化する DI-EBAC も強化され、以前は難しかった低抵抗の欠陥も見つけやすくなっています。

温度制御ステージで温度依存の特性評価ができ、上面と側面を同時に見る光学カメラで粗いプロービングを補助します。プローブとは独立に試料を動かすサブステージ、プローブ交換用のロードロック室も備え、抵抗性のゲート電極不良を診断するパルス IV 測定（特注）にも対応します。

主な特長

•5nm ノード以降に対応、プローブ 8 本
•100V 未満の超低加速電圧で鮮明な像
•EBAC・DI-EBAC・EBIC・パルス IV
•温度制御ステージ・プローブ交換ロードロック

主な仕様

解析手法	ナノプロービング（電気特性・EBAC・EBIC・パルス IV）
対象	トランジスタ・配線（5 nm ノード以降）
特徴	ショットキー電子銃＋減速法で低加速電圧の高分解能観察
主要用途	不良トランジスタの電気的特定

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	浜松ホトニクスPHEMOS-X エミッション顕微鏡 C15765-01	日立ハイテクナノ・プローバ® NP8000	サーモフィッシャーサイエンティフィックHelios 5 EXL DualBeam
解析手法	発光解析・発熱解析・IR-OBIRCH（非破壊）	ナノプロービング（電気特性・EBAC・EBIC・パルス IV）	FIB-SEM による断面観察・TEM 試料作製
対象	ウェーハ・パッケージ品	トランジスタ・配線（5 nm ノード以降）	300 mm フルウェーハ
主要用途	故障箇所の特定（位置の絞り込み）	不良トランジスタの電気的特定	故障箇所の物理解析

1機種だけが掲載している項目（2件）

関連機種	Dual PHEMOS-X C16506-01（表裏両面から解析）	—	—
特徴	—	ショットキー電子銃＋減速法で低加速電圧の高分解能観察	—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。