CG7300とは
CG7300 は、日立ハイテクの高分解能 FEB 測長装置(CD-SEM)です。EUV 世代デバイスの量産に対応した高信頼性の CD-SEM として位置づけられ、多様な計測を高精度かつ高い信頼性で行います。
原子サイズレベルで装置間の差を小さくすることで、信頼性の高いプロセス管理を実現しています。装置間マッチングは従来機種比で約 10% 向上しました。耐環境性能の向上と、高速スキャン方式による帯電制御で、よりクリアで高解像度の画像を得られます。
低倍率画像の歪みを改善したことで、高精度な CD 計測から広範囲の CDU(CD 均一性)計測まで幅広いニーズに対応します。高速搬送システムによる高スループット化と、ウェーハ外周の計測除外領域(Edge Exclusion)の改善で生産性の向上にも寄与します。
主な特長
- •EUV 量産世代に対応した高信頼性 CD-SEM
- •装置間マッチングを従来機種比約 10% 向上
- •高速スキャンの帯電制御による高解像度画像
- •低倍率画像の歪み改善で広範囲 CDU 計測に対応
主な仕様
| 測定方式 | CD-SEM |
|---|---|
| 対象世代 | EUV 量産世代 |
| 特徴 | 装置間マッチング約 10% 向上・高速スキャンの帯電制御 |
| 主要用途 | 量産ラインの CD・CDU 計測 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 日立ハイテクGT2000(高精度電子線計測システム) | 日立ハイテクCG7300(高分解能FEB測長装置) | Applied MaterialsVeritySEM® 20 CD Metrology |
|---|---|---|---|
| 測定方式 | CD-SEM | CD-SEM | CD-SEM(サブナノメートル分解能) |
| 対象世代 | High-NA EUV 世代 | EUV 量産世代 | EUV・High-NA EUV、GAA・DRAM・3D NAND |
| 特徴 | 超低加速電圧 100V・3D 構造向け反射電子検出系 | 装置間マッチング約 10% 向上・高速スキャンの帯電制御 | 多方向スキャン、スループット 20〜50% 向上、2D 構造のマッチング最大 25% 改善 |
| 主要用途 | 先端ロジック・メモリの寸法計測 | 量産ラインの CD・CDU 計測 | EUV スキャナーの校正・先端デバイスの寸法計測 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •EUV 世代デバイスの量産ラインの CD・CDU 計測
掲載カテゴリ
CG7300は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
日立ハイテク
世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06