GT2000（高精度電子線計測システム）

High-NA EUV 世代のデバイス開発と量産に向けた日立ハイテクの CD-SEM。100V の超低加速電圧と超高速多点計測を備える。

GT2000とは

GT2000 は、日立ハイテクの高精度電子線計測システム（CD-SEM）です。High-NA EUV 世代のデバイス開発と量産のニーズに応えるために開発されました。CD-SEM は電子ビームでパターンを観察し、線幅などの寸法をナノメートル以下の精度で測る装置です。

High-NA EUV の工程ではレジストがさらに薄くなり、電子ビームによるダメージ（シュリンク）が問題になります。GT2000 は 100V という超低加速電圧の条件と、超高速の多点計測機能を備え、レジストへの影響を抑えながら計測点を増やせます。

3D デバイス構造向けに高感度の反射電子検出システムを搭載し、新しいプラットフォームと電子光学系で装置間の測長値の差を極小化しています。量産では複数台の装置で同じ値を返すことが重要になるため、この装置間マッチングが CD-SEM の大きな性能指標です。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	日立ハイテクGT2000（高精度電子線計測システム）	日立ハイテクCG7300（高分解能FEB測長装置）	Applied MaterialsVeritySEM® 20 CD Metrology
測定方式	CD-SEM	CD-SEM	CD-SEM（サブナノメートル分解能）
対象世代	High-NA EUV 世代	EUV 量産世代	EUV・High-NA EUV、GAA・DRAM・3D NAND
特徴	超低加速電圧 100V・3D 構造向け反射電子検出系	装置間マッチング約 10% 向上・高速スキャンの帯電制御	多方向スキャン、スループット 20〜50% 向上、2D 構造のマッチング最大 25% 改善
主要用途	先端ロジック・メモリの寸法計測	量産ラインの CD・CDU 計測	EUV スキャナーの校正・先端デバイスの寸法計測