レーザーテック/マスク寸法・平面度測定装置

MPM193 シリーズ

業界標準機の ArF 用位相シフト量測定装置。露光と同じ 193nm で位相差と透過率を直接測る。

MPM193 シリーズとは

MPM193 シリーズは、レーザーテックの位相差・透過率測定装置です。業界標準機となった ArF(193nm)用の位相シフト量測定装置です。

露光装置と同じ波長で位相シフト量を直接測り、ハーフトーン型位相シフトマスクの透過率も測れます。床の振動や装置内部の気流の乱れに対して高い安定性を持ちます。

ランプ光源の MPM193Ⅱ は位相差 0.5°・透過率 0.2%(3σ)、レーザー光源の MPM193EX は位相差 0.2°・透過率 0.04%(3σ)の測定再現性を持ちます。

主な特長

  • •露光と同じ 193nm で直接測定
  • •位相差と透過率を測定
  • •高い測定再現性

主な仕様

測定波長193 nm(ArF)
再現性(MPM193EX)位相差 0.2°・透過率 0.04%(3σ)
ラインアップMPM193Ⅱ(ランプ光源)・MPM193EX(レーザー光源)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ホロン電子ビーム フォトマスクパターン寸法測定装置アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650アドバンテストMASK MVM-SEM® E3640アドバンテストMASK CD-SEM E3660SCREENホールディングスDR-8000(自動線幅測定装置)レーザーテックMPM193 シリーズレーザーテックMPM248
対象——フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク(G6〜G10)——
測定方式電子ビーム(マスク用 CD-SEM)マスク用 CD-SEM(多次元観察・測長)—————
関連機種LEXa シリーズ(フォトマスク欠陥レビュー分析)E3660(2nm 以降向け・2025年)—————
主要用途フォトマスクの線幅測定マスクパターン寸法・輪郭の計測—————
機能——シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察広視野測定・DBM・曲線パターン測定———
測定波長—————193 nm(ArF)248 nm(KrF)
1機種だけが掲載している項目(9件)
対象マスク—先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート—————
対応ノード——1X nm————
測定精度———E3650 比 20% 以上向上———
方式————高解像度 UV 顕微鏡——
測定項目————CD・空中像・透過率(繰り返し精度 0.1% 以下)・位相シフト量——
再現性(MPM193EX)—————位相差 0.2°・透過率 0.04%(3σ)—
ラインアップ—————MPM193Ⅱ(ランプ光源)・MPM193EX(レーザー光源)—
再現性——————位相差 0.5°・透過率 0.2%(3σ)
基板——————6025

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •位相シフトマスクの位相差・透過率測定

掲載カテゴリ

MPM193 シリーズは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

レーザーテック

EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査(MATRICS/MAGICS)・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。

レーザーテック の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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