SCREENホールディングス/マスク寸法・平面度測定装置

DR-8000(自動線幅測定装置)

高解像度 UV 顕微鏡でフォトマスクの線幅(CD)をナノオーダーの繰り返し精度で測る装置。透過率・位相シフト量も測れる。

DR-8000とは

DR-8000 は、SCREEN のフォトマスクの品質管理用の自動線幅測定装置です。高解像度の UV 顕微鏡を搭載し、微細パターンの線幅(CD)をナノオーダーの高い繰り返し精度で測ります。フォトマスク業界の標準設備として多くの実績があります。

CD 測定専用の UV 対物レンズと均質な UV 透過照明、エッジ決定アルゴリズム、独自のフォーカスシステムで、孤立線、L&S、ホール・ドット、レジストパターンなどを正確に測ります。

露光波長で NA と照明 σ を制御した空中像の観察、独自のダブルスリット法による位相シフト量の測定、繰り返し精度 0.1% 以下の透過率測定にも対応します。欠陥検査装置の座標をもとにした高解像度レビューや、ペリクル付きマスクの測定もできます。4〜9 インチの半導体用マスクと、G6〜G10 の大型パネル用マスクに対応します。

主な特長

  • •ナノオーダーの CD 繰り返し精度
  • •空中像・位相シフト量・透過率を測定
  • •ペリクル付きマスクに対応

主な仕様

方式高解像度 UV 顕微鏡
測定項目CD・空中像・透過率(繰り返し精度 0.1% 以下)・位相シフト量
対象4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク(G6〜G10)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ホロン電子ビーム フォトマスクパターン寸法測定装置アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650アドバンテストMASK MVM-SEM® E3640アドバンテストMASK CD-SEM E3660SCREENホールディングスDR-8000(自動線幅測定装置)レーザーテックMPM193 シリーズレーザーテックMPM248
対象——フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク(G6〜G10)——
測定方式電子ビーム(マスク用 CD-SEM)マスク用 CD-SEM(多次元観察・測長)—————
関連機種LEXa シリーズ(フォトマスク欠陥レビュー分析)E3660(2nm 以降向け・2025年)—————
主要用途フォトマスクの線幅測定マスクパターン寸法・輪郭の計測—————
機能——シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察広視野測定・DBM・曲線パターン測定———
測定波長—————193 nm(ArF)248 nm(KrF)
1機種だけが掲載している項目(9件)
対象マスク—先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート—————
対応ノード——1X nm————
測定精度———E3650 比 20% 以上向上———
方式————高解像度 UV 顕微鏡——
測定項目————CD・空中像・透過率(繰り返し精度 0.1% 以下)・位相シフト量——
再現性(MPM193EX)—————位相差 0.2°・透過率 0.04%(3σ)—
ラインアップ—————MPM193Ⅱ(ランプ光源)・MPM193EX(レーザー光源)—
再現性——————位相差 0.5°・透過率 0.2%(3σ)
基板——————6025

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •フォトマスクの開発・品質保証
  • •FPD 用大型マスクの測定

掲載カテゴリ

DR-8000は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

SCREENホールディングス

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。

SCREENホールディングス の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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最終確認日:2026-10-07
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