MPM248とは
MPM248 は、レーザーテックの位相シフト量測定装置です。業界標準機となった KrF（248nm）用の装置です。
ステッパの露光波長と同じ波長で位相シフト量を直接測り、ハーフトーン型位相シフトマスクの透過率も測れます。床の振動や装置内部の気流の乱れに対して高い安定性を持ちます。
6025 サイズの基板に対応し、測定再現性は位相差 0.5°、透過率 0.2%（3σ）です。
主な特長
- •露光と同じ 248nm で直接測定
- •位相差と透過率を測定
主な仕様
| 測定波長 | 248 nm（KrF） |
|---|---|
| 再現性 | 位相差 0.5°・透過率 0.2%（3σ） |
| 基板 | 6025 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ホロン電子ビーム フォトマスクパターン寸法測定装置 | アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650 | アドバンテストMASK MVM-SEM® E3640 | アドバンテストMASK CD-SEM E3660 | SCREENホールディングスDR-8000（自動線幅測定装置） | レーザーテックMPM193 シリーズ | レーザーテックMPM248 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対象 | — | — | フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート | 2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート | 4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク（G6〜G10） | — | — |
| 測定方式 | 電子ビーム（マスク用 CD-SEM） | マスク用 CD-SEM（多次元観察・測長） | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | LEXa シリーズ（フォトマスク欠陥レビュー分析） | E3660（2nm 以降向け・2025年） | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | フォトマスクの線幅測定 | マスクパターン寸法・輪郭の計測 | — | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察 | 広視野測定・DBM・曲線パターン測定 | — | — | — |
| 測定波長 | — | — | — | — | — | 193 nm（ArF） | 248 nm（KrF） |
1機種だけが掲載している項目（9件）
| 対象マスク | — | 先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ノード | — | — | 1X nm | — | — | — | — |
| 測定精度 | — | — | — | E3650 比 20% 以上向上 | — | — | — |
| 方式 | — | — | — | — | 高解像度 UV 顕微鏡 | — | — |
| 測定項目 | — | — | — | — | CD・空中像・透過率（繰り返し精度 0.1% 以下）・位相シフト量 | — | — |
| 再現性（MPM193EX） | — | — | — | — | — | 位相差 0.2°・透過率 0.04%（3σ） | — |
| ラインアップ | — | — | — | — | — | MPM193Ⅱ（ランプ光源）・MPM193EX（レーザー光源） | — |
| 再現性 | — | — | — | — | — | — | 位相差 0.5°・透過率 0.2%（3σ） |
| 基板 | — | — | — | — | — | — | 6025 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •KrF 用位相シフトマスクの測定
掲載カテゴリ
MPM248は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
レーザーテック
EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査（MATRICS/MAGICS）・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。
マスク寸法・平面度測定装置のほかの製品
レーザーテックのほかの製品
SICA88（結晶欠陥検査装置）OPTELICS® HYBRID+（形態観察装置（SEM/TEM））ACTIS A300 シリーズ（マスク検査装置）ACTIS A150（マスク検査装置）ACTIS A200HiT シリーズ（マスク検査装置）ABICS E320（マスク検査装置）ABICS E120（マスク検査装置）MATRICS X9ULTRA シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X8ULTRA シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X810EX シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X712 シリーズ（マスク検査装置）MAGICS M9750／M9751（マスク検査装置）MAGICS M9650／M9651（マスク検査装置）MAGICS M6750／M6751（マスク検査装置）PELMIS シリーズ（マスク検査装置）BASIC シリーズ（マスク検査装置）MZ100（マスク検査装置）MPM193 シリーズ（マスク寸法・平面度測定装置）SICA108（結晶欠陥検査装置）GALOIS211（結晶欠陥検査装置）CIRIUS シリーズ（欠陥検査装置）LX シリーズ（マクロ検査装置）CIEL シリーズ（マクロ検査装置）EZ300（ウェハエッジ形状測定装置）（マクロ検査装置）VIANCA シリーズ（TSV形成装置）BGM300（TSV形成装置）BIM300（ウェハ全自動測定装置）（段差・表面粗さ測定装置）MAGICS M5640（ウェハ基板検査装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07