マスク寸法・平面度測定装置メーカー4社
マスク寸法・平面度測定装置は、完成したフォトマスクのパターン寸法（CD）・位置精度（レジストレーション）・基板の平坦度を測定する装置です。マスク上の寸法誤差はマスクエラー増倍率（MEEF）によってウェハ上で拡大されて現れ、位置ずれは重ね合わせ誤差へ直結します。EUVマスクは反射光学系のため基板のわずかな反りが結像位置をずらし、平面度への要求が透過型マスクより格段に厳しくなります。
主要特徴
メーカー
4社の主要メーカー
電子ビーム応用装置のメーカー。フォトマスクの欠陥レビューSEMやマスク欠陥修正装置、測長SEMなどを供給し、マスク製造の品質保証工程を支える。
- •電子ビーム光学系の自社設計
- •マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群
Corning傘下の精密光学計測メーカー。ウェハ平坦度測定・フォトマスク検査用の干渉計・精密光学システムを半導体業界向けに供給する。
- •精密干渉計測技術に強み
- •ウェハ平坦度測定でグローバルな導入実績
半導体テスト装置（ATE）市場で世界シェア50%超のリーダー。SoC、メモリ、パワー半導体の包括的テストソリューションを提供。
- •ATE市場で世界シェア50%以上のトップポジション
- •SoC、メモリ、パワー半導体の包括的テストソリューション
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
- •世界最大の半導体製造装置サプライヤー
- •成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオ
関連カテゴリ
マスク洗浄・乾燥装置は、フォトマスク（レチクル）表面に付着したパーティクル・有機汚染・ヘイズを除去する装置です。
メーカー 3 社マスクコータ／デベロッパマスクコータ／デベロッパは、マスクブランクスへのレジスト塗布と、電子線描画後の現像を行う装置です。
メーカー 2 社マスクエッチング装置マスクエッチング装置は、電子線描画と現像を経たレジストパターンをマスクとして、ブランクス上のクロム膜や位相シフト膜（MoSi）をエッチングし、最終的な遮光パターンを形成する装置です。
メーカー 2 社マスク修正装置マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。
メーカー 3 社レチクルストッカーレチクルストッカーは、フォトマスク（レチクル）をクリーンな環境で保管し、露光装置からの要求に応じて自動で払い出す保管・搬送システムです。
メーカー 1 社マスク描画装置（EB描画）マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。
メーカー 5 社