Centura Ultima HDP CVD 是應用材料的高密度電漿（HDP）CVD 設備。長期擔綱高品質介電膜與無間隙（空洞）填充的業界主力機種，適用 200mm 與 300mm。
以 2 個 RF 線圈在晶圓全面發揮優異的填充性能，並以獨家靜電吸盤提升膜質與均勻性。搭配遠端電漿清潔，可減少缺陷並延長清潔間隔。
可沉積未摻雜與摻雜薄膜，用於 STI、PMD、ILD、IMD、鈍化層等廣泛用途。也可進行回蝕刻，以及改善膜質的高密度電漿處理。
Centura Ultima HDP CVD的特點與規格
應用材料（Applied Materials）・CVD 設備
高密度電漿（HDP）CVD 的經典機種。以雙 RF 線圈實現無空洞的介電膜填充。
產品概要
主要規格
| 方式 | 高密度電漿 CVD |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 200／300 mm |
| 主要用途 | STI・PMD・ILD・IMD・鈍化層 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
雙 RF 線圈
無空洞填充
適用 200／300mm
亦支援摻雜薄膜
主要用途
- STI 填充
- 層間介電層（PMD・ILD・IMD）
- 鈍化層
製造商與在台據點
在台據點
- 新竹據點（新竹科學園區）：1996 年進駐，技術研發中心
- 台南據點（台南）：製造中心與顯示器設備製造研發中心
- 林口・台中據點（林口・台中）：營運據點
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