Producer Eterna FCVD 是應用材料的流動式 CVD（Flowable CVD）設備。電晶體越小，元件間的間隙也越窄，要以高品質介電膜填充不規則形狀的間隙來隔離元件也越加困難。
據廠商資料，Eterna 是針對 20nm 以下設計、能完整且無空洞地填充這類關鍵間隙的唯一技術。可填充深寬比達 30:1 的極端間隙，以及非常不規則且複雜形狀的間隙。
以類似液體的狀態沉積高品質介電膜，從間隙底部如流入般進行填充。
Producer Eterna FCVD的特點與規格
應用材料（Applied Materials）・CVD 設備
以如液體般流入的介電膜，無空洞填充深寬比達 30:1 間隙的流動式 CVD（FCVD）。
產品概要
主要規格
| 方式 | 流動式 CVD（Flowable CVD） |
|---|---|
| 填充性能 | 深寬比達 30:1 |
| 對象世代 | 20nm 以下 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
以流動性介電膜填充
深寬比達 30:1
支援不規則形狀的間隙
主要用途
- STI 等元件隔離
- 20nm 以下的間隙填充
製造商與在台據點
在台據點
- 新竹據點（新竹科學園區）：1996 年進駐，技術研發中心
- 台南據點（台南）：製造中心與顯示器設備製造研發中心
- 林口・台中據點（林口・台中）：營運據點
所屬設備分類
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