最後更新:2026年10月23日CVD 設備

Producer XP Precision Pioneer CVD的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・CVD 設備

高密度碳的 CVD 硬遮罩。蝕刻耐受性高,即使是薄膜也能忠實轉移圖形。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Producer XP Precision Pioneer 是應用材料以 CVD 製作的硬遮罩(蝕刻時的保護膜)。採用獨家的高密度碳膜,特點是能耐受先進節點的蝕刻化學。

在以光阻製作圖形之前沉積於晶圓上,以高保真度將圖形轉移到晶圓。由於蝕刻選擇比高,只需堆疊較薄的膜,側壁形狀也一致。藉此抑制隨微縮而擴大的製程變異。

與該公司用於改變圖形形狀的 Sculpta,以及蝕刻設備 Sym3 Y Magnum 共同最佳化,在邏輯與 DRAM 的關鍵蝕刻步驟中,可獲得比傳統碳膜更高的選擇比與控制性。

主要規格

方式CVD(高密度碳硬遮罩)
特點耐受先進蝕刻化學、側壁均勻性高
搭配與 Sculpta・Sym3 Y Magnum 共同最佳化

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

高密度碳硬遮罩
高蝕刻選擇比
與 Sculpta・Sym3 共同最佳化

主要用途

  • 邏輯・DRAM 的圖案化
  • EUV 圖形的轉移

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Pioneer CVD