DISCO/研磨装置(ポリッシャー)

DME8061(ドライエッチャ)

プラズマで研削ダメージ層を除去し、続けてゲッタリング層を作る MUSUBI 対応のドライエッチャ。

DME8061とは

DME8061 は、ディスコのチップの抗折強度を高める MUSUBI 対応のドライエッチャです。プラズマによる非接触のストレスリリーフで、研削面に残った研削ダメージ層を取り除き、抗折強度を高めます。

ストレスリリーフの後、プロセスガスを切り替えて連続でゲッタリング処理ができます。研削面にゲッタリング層を作り、重金属などの不純物を捕まえて、デバイス面の金属汚染を抑えます。

複数の装置を連結するクラスターシステム「MUSUBI」の一部で、グラインダポリッシャやウェーハマウンタとつないで、SDBG 後のチップのストレスリリーフとゲッタリングを両立する工程を組めます。

主な特長

  • •プラズマによる非接触ストレスリリーフ
  • •連続ゲッタリング処理
  • •MUSUBI 対応

主な仕様

方式プラズマストレスリリーフ+プラズマゲッタリング
対応ウェハ径Φ300 mm
プロセスガスSF₆・Ar

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目DISCODGP8761DISCODFP8140DISCODFP8160DISCODME8061(ドライエッチャ)
対応ウェハ径200/300 mm4/5/6/8 インチΦ200/300 mm(1 サイズを選択)Φ300 mm
研磨方式研削+ドライポリッシュ/CMP/Poligrind(Z3軸を選択)ドライポリッシュ(スラリー・薬液不使用)——
構成グラインダ/ポリッシャ一体型単体機(DISCO グラインダとインライン接続可)——
主要用途薄化ウェーハの研削ダメージ除去(ストレスリリーフ)研削ダメージ除去による抗折強度向上・反り低減——
方式——ドライポリッシュ(ストレスリリーフ)プラズマストレスリリーフ+プラズマゲッタリング
1機種だけが掲載している項目(2件)
スピンドル——定格 7.5kW—
プロセスガス———SF₆・Ar

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •SDBG 後の抗折強度向上
  • •金属汚染の抑制

掲載カテゴリ

DME8061は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

DISCO

「切る・削る・磨く」技術の世界的リーダー。ダイシングソー、グラインダで市場トップシェアを持ち、超薄ウェーハ加工の完全ソリューションを提供。

DISCO の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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