ウェハ乾燥装置メーカー3社
ウェハ乾燥装置は、洗浄後のウェハ表面から液体を除去する装置です。単に水を飛ばすのではなく、乾燥時にウォーターマーク（水痕）とパターン倒壊を起こさずに液膜を引かせることが目的になります。IPA蒸気の表面張力差を利用するマランゴニ乾燥、遠心力で振り切るスピン乾燥、超臨界CO₂で気液界面そのものを消す超臨界乾燥があり、アスペクト比の高い微細パターンほど後者が必要になります。洗浄性能が良くても乾燥で欠陥を作れば台無しになるため、洗浄装置と一体で設計されます。
主要特徴
メーカー
3社の主要メーカー
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
- •洗浄装置で世界トップシェア
- •表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
- •世界最大の半導体製造装置サプライヤー
- •成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオ
理化学機器・研究設備と半導体製造装置を手がけるメーカー。半導体分野ではレジスト剥離・洗浄・乾燥からめっき、溶剤再生まで、ウエハや治具の用途に応じたウェットプロセス装置を研究開発用の少量生産機から量産機まで供給する。
- •剥離・洗浄・乾燥を一貫して扱うウェット装置群
- •研究開発用の少量機から量産機までの対応幅
関連カテゴリ
バッチ洗浄装置（Batch Cleaning）は、複数のウェハを同時に処理する洗浄システムです。
メーカー 2 社ドライ洗浄装置ドライ洗浄（Dry Cleaning）は、プラズマやガスを用いてウェハ表面の汚染を除去する乾式プロセスです。
メーカー 3 社レジスト剥離装置（ウェット）レジスト剥離装置（ウェット）は、露光・エッチング・イオン注入を終えた後に不要となったフォトレジストを薬液で溶解除去する装置です。
メーカー 4 社シングルウェハ洗浄装置枚葉洗浄装置（Single Wafer Cleaning）は、ウェハを1枚ずつ個別に処理する精密洗浄システムです。
メーカー 4 社ウェハスクラバウェハスクラバは、PVAブラシや高圧ジェットでウェハ表面を物理的にこすり、付着したパーティクルを剥がし取る洗浄装置です。
メーカー 3 社ウェット洗浄装置ウェット洗浄（Wet Cleaning）は、薬液・超純水を用いてウェハ表面の汚染物質を除去する湿式プロセスです。
メーカー 4 社