レジスト剥離装置（ウェット）メーカー4社
レジスト剥離装置（ウェット）は、露光・エッチング・イオン注入を終えた後に不要となったフォトレジストを薬液で溶解除去する装置です。硫酸過水（SPM）や専用の有機剥離液を用い、アッシングで灰化しきれなかった残渣や、高ドーズ注入で硬化した表層を確実に落とします。下地の金属配線やLow-k膜を侵さない選択性が最大の要求で、薬液温度と処理時間の管理が甘いと配線腐食やダメージにつながります。ドライのアッシングと組み合わせて使うのが一般的です。
主要特徴
メーカー
4社の主要メーカー
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
- •洗浄装置で世界トップシェア
- •表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術
MOCVD・MBE・ALDなど薄膜エピタキシャル成長装置の専業メーカー。LED、化合物半導体、先端ロジック向けの精密成膜技術を提供。
- •MOCVD装置でグローバルトップシェア
- •MBE・ALDを含む多様な薄膜成長技術ポートフォリオ
理化学機器・研究設備と半導体製造装置を手がけるメーカー。半導体分野ではレジスト剥離・洗浄・乾燥からめっき、溶剤再生まで、ウエハや治具の用途に応じたウェットプロセス装置を研究開発用の少量生産機から量産機まで供給する。
- •剥離・洗浄・乾燥を一貫して扱うウェット装置群
- •研究開発用の少量機から量産機までの対応幅
真空ポンプ・真空コンポーネントと真空応用装置のメーカー。薄膜形成装置（蒸着・スパッタ・イオンプレーティング）、アッシングなどのプラズマ処理装置、真空はんだ付け・接合装置、真空熱処理装置を製造する。
- •真空ポンプから装置まで自社で揃う
- •蒸着・イオンプレーティングなど成膜方式の幅
関連カテゴリ
バッチ洗浄装置（Batch Cleaning）は、複数のウェハを同時に処理する洗浄システムです。
メーカー 2 社ドライ洗浄装置ドライ洗浄（Dry Cleaning）は、プラズマやガスを用いてウェハ表面の汚染を除去する乾式プロセスです。
メーカー 3 社シングルウェハ洗浄装置枚葉洗浄装置（Single Wafer Cleaning）は、ウェハを1枚ずつ個別に処理する精密洗浄システムです。
メーカー 4 社ウェハ乾燥装置ウェハ乾燥装置は、洗浄後のウェハ表面から液体を除去する装置です。
メーカー 3 社ウェハスクラバウェハスクラバは、PVAブラシや高圧ジェットでウェハ表面を物理的にこすり、付着したパーティクルを剥がし取る洗浄装置です。
メーカー 3 社ウェット洗浄装置ウェット洗浄（Wet Cleaning）は、薬液・超純水を用いてウェハ表面の汚染物質を除去する湿式プロセスです。
メーカー 4 社