ALPHA-8SE™ i

2018年に前機種をリニューアルした TEL の 200mm 縦型バッチ式熱処理成膜装置。一度に最大 150 枚を処理する。

ALPHA-8SE iとは

ALPHA-8SE i は、東京エレクトロン（TEL）の 200mm 縦型バッチ式熱処理成膜装置です。「刷新」「継承」「進化」の 3 つのコンセプトで、前機種 ALPHA-8SE のリニューアル装置として 2018年にリリースされました。

発売から 20 年以上がたつ前機種の部品のうち生産中止の可能性が高いものを最新構成に刷新し、300mm 縦型バッチ炉と部品を共通化して安定・継続稼動を実現しています。150・200mm に対応し、一度に最大 150 枚を処理できます。酸化・アニール、CVD Si（Poly、a-Si）、SiN、SiO₂、High-k を含む ALD まで対応します。

より多くの装置パラメーターを取り込んでリモート監視機能を改良し、操作画面のオートログアウトや低アウトガスの排気配管ヒーターも採用しました。SEMI S2 と CE マーキングに適合しています。

主な特長

•200mm 縦型バッチ炉
•一度に最大 150 枚
•300mm 炉と部品を共通化
•SEMI S2・CE 適合

主な仕様

方式	縦型バッチ式熱処理成膜
対応ウェハ径	150／200 mm
処理枚数	最大 150 枚

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Kokusai Electric（国際電気）QUIXACE-II	東京エレクトロン（TEL）TELINDY PLUS	東京エレクトロン（TEL）EVAROS™	東京エレクトロン（TEL）TELFORMULA™	東京エレクトロン（TEL）ALPHA-8SE™ i	ASMインターナショナルSONORA	ASMインターナショナルA400 DUO	ULVAC（アルバック）H83／H84（拡散炉）
方式	縦型大バッチ	バッチ式（縦型炉）	縦型バッチ式熱処理成膜	縦型バッチ式熱処理成膜（短 TAT）	縦型バッチ式熱処理成膜	—	バッチ式縦型炉（デュアル反応炉）	横型拡散炉（3 段／4 段構成）
主要用途	酸化膜・CVD膜の形成	酸化・拡散・バッチ成膜	ALD SiO₂・ALD SiN・Poly	CVD Si・SiN・SiO₂・High-k ALD・酸化・アニール	—	—	拡散・アニール・酸化・LPCVD（ポリシリコン・窒化膜・酸化膜）	—
対応ウェハ径	—	300 mm	—	—	150／200 mm	300 mm	200 mm 以下	—
生産性	従来機比最大 1.25 倍のロット処理	—	—	—	—	前世代機 A412 比最大 30% 向上（レシピ互換）	—	—
関連機種	AdvancedAce-II・VERTEX Revolution（200 mm）	TELFORMULA・ALPHA-8SE i	—	—	—	—	—	—
処理枚数	—	—	最大 200 枚（300mm）	—	最大 150 枚	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（10件）

対応プロセス	酸化・拡散・アニール（低温／高温）	—	—	—	—	—	—	—
最大ロード	—	125 枚	—	—	—	—	—	—
プロセス温度	—	RT ～ 1,100 °C	—	—	—	—	—	—
シリーズ構成	—	TELINDY PLUS／TELINDY PLUS IRad（プラズマALD）／EVAROS	—	—	—	—	—	—
特徴	—	—	—	高速昇降温ヒーター・完全石英面のリアクター・ドライガスクリーニング	—	—	—	—
バッチ処理枚数	—	—	—	—	—	最大 150 枚	—	—
常圧プロセス	—	—	—	—	—	拡散・不純物活性化・アニール・酸化	—	—
減圧プロセス	—	—	—	—	—	LPCVD（Poly-Si・SiN・SiO）／バッチALD	—	—
ウェハ径・処理枚数	—	—	—	—	—	—	—	〜200mm・50／125 枚
温度	—	—	—	—	—	—	—	常用 600〜1,200℃・均熱性 ±1.0℃（5 ゾーン独立制御）