EVAROS™

一度に 300mm ウェーハ 200 枚を処理できる TEL のバッチ式熱処理成膜装置。TELINDY PLUS 比でウェーハあたりの CO₂ 排出を約 25% 削減。

EVAROSとは

EVAROS は、東京エレクトロン（TEL）の 300mm ウェーハ対応のバッチ式熱処理成膜装置です。従来比で最大となる一度に 200 枚の製品処理が可能で、ウェーハ搬送時間の短縮と合わせて非常に高い生産性を実現します。

動特性を強化した新開発のマルチゾーン制御ヒーターで高い均熱性を得て、昇降温や温度の安定に必要な時間を大きく短縮しました。排気配管を大口径にしてコンダクタンスを高め、ハイエンドデバイスの ALD などで精度の高い成膜制御を可能にしています。

消費電力や冷却水・ガスの使用量を減らし、従来装置 TELINDY PLUS に比べてウェーハあたりの CO₂ 排出量を約 25% 削減します。ウェーハ搬送機の自動位置調整機能や、将来の装置自律化に向けた新しいシステムコントローラも搭載しています。対応用途は ALD SiO₂、ALD SiN、Poly で、今後 High-k などにも広げる予定です。

主な特長

•一度に最大 200 枚を処理
•新開発のマルチゾーン制御ヒーター
•CO₂ 排出を約 25% 削減

主な仕様

方式	縦型バッチ式熱処理成膜
処理枚数	最大 200 枚（300mm）
主要用途	ALD SiO₂・ALD SiN・Poly

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Kokusai Electric（国際電気）QUIXACE-II	東京エレクトロン（TEL）TELINDY PLUS	東京エレクトロン（TEL）EVAROS™	東京エレクトロン（TEL）TELFORMULA™	東京エレクトロン（TEL）ALPHA-8SE™ i	ASMインターナショナルSONORA	ASMインターナショナルA400 DUO	ULVAC（アルバック）H83／H84（拡散炉）
方式	縦型大バッチ	バッチ式（縦型炉）	縦型バッチ式熱処理成膜	縦型バッチ式熱処理成膜（短 TAT）	縦型バッチ式熱処理成膜	—	バッチ式縦型炉（デュアル反応炉）	横型拡散炉（3 段／4 段構成）
主要用途	酸化膜・CVD膜の形成	酸化・拡散・バッチ成膜	ALD SiO₂・ALD SiN・Poly	CVD Si・SiN・SiO₂・High-k ALD・酸化・アニール	—	—	拡散・アニール・酸化・LPCVD（ポリシリコン・窒化膜・酸化膜）	—
対応ウェハ径	—	300 mm	—	—	150／200 mm	300 mm	200 mm 以下	—
生産性	従来機比最大 1.25 倍のロット処理	—	—	—	—	前世代機 A412 比最大 30% 向上（レシピ互換）	—	—
関連機種	AdvancedAce-II・VERTEX Revolution（200 mm）	TELFORMULA・ALPHA-8SE i	—	—	—	—	—	—
処理枚数	—	—	最大 200 枚（300mm）	—	最大 150 枚	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（10件）

対応プロセス	酸化・拡散・アニール（低温／高温）	—	—	—	—	—	—	—
最大ロード	—	125 枚	—	—	—	—	—	—
プロセス温度	—	RT ～ 1,100 °C	—	—	—	—	—	—
シリーズ構成	—	TELINDY PLUS／TELINDY PLUS IRad（プラズマALD）／EVAROS	—	—	—	—	—	—
特徴	—	—	—	高速昇降温ヒーター・完全石英面のリアクター・ドライガスクリーニング	—	—	—	—
バッチ処理枚数	—	—	—	—	—	最大 150 枚	—	—
常圧プロセス	—	—	—	—	—	拡散・不純物活性化・アニール・酸化	—	—
減圧プロセス	—	—	—	—	—	LPCVD（Poly-Si・SiN・SiO）／バッチALD	—	—
ウェハ径・処理枚数	—	—	—	—	—	—	—	〜200mm・50／125 枚
温度	—	—	—	—	—	—	—	常用 600〜1,200℃・均熱性 ±1.0℃（5 ゾーン独立制御）