AMC（Airborne Molecular Contamination：分子状汚染物質）とは、クリーンルームの空気中に、粒子ではなく気体の分子の形で漂っている汚染物質のことです。パーティクル（微粒子）はHEPAやULPAのフィルタで取り除けますが、分子の大きさの汚染物質はフィルタを素通りしてしまうため、別の対策が必要です。濃度はppb（10億分の1）やppt（1兆分の1）という非常に低い単位で管理されます。
AMCは性質によって、酸（フッ化水素、塩化水素、硫黄酸化物など）、塩基（アンモニア、アミンなど）、凝縮しやすい有機物（シロキサン、可塑剤など）、ドーパント（ボロン、リンなど）に分類されます。発生源は、外気、薬液やガスの使用、作業者、建材や床材、配管の部材、フィルタの材料そのものなど、さまざまです。
影響は種類によって違います。塩基は化学増幅型レジストの酸を打ち消してパターンの不良（Tトップ）を起こし、酸は配線の腐食の原因になります。有機物はウェハやレンズの表面に付いて膜の密着性を下げ、フォトマスクやペリクルの表面にくもり（ヘイズ）を生じさせます。ドーパントは意図しない不純物としてトランジスタの特性を変えます。対策として、活性炭やイオン交換体を使ったケミカルフィルタ、FOUPや装置の中の窒素パージ、工程間の待ち時間（Q-Time）の管理が行われます。
