マスクコータ／デベロッパメーカー2社

マスク洗浄・乾燥装置は、フォトマスク（レチクル）表面に付着したパーティクル・有機汚染・ヘイズを除去する装置です。

マスクエッチング装置は、電子線描画と現像を経たレジストパターンをマスクとして、ブランクス上のクロム膜や位相シフト膜（MoSi）をエッチングし、最終的な遮光パターンを形成する装置です。

マスク寸法・平面度測定装置は、完成したフォトマスクのパターン寸法（CD）・位置精度（レジストレーション）・基板の平坦度を測定する装置です。

マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。

レチクルストッカーは、フォトマスク（レチクル）をクリーンな環境で保管し、露光装置からの要求に応じて自動で払い出す保管・搬送システムです。

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。