バルクガス（N2/O2/Ar）メーカー5社
バルクガスは、窒素・酸素・アルゴン・水素・ヘリウムといった、ファブが大量に消費する汎用ガスの総称です。窒素は装置内のパージと搬送系の雰囲気置換に最も多く使われ、消費量の大きさから工場敷地内に空気分離装置を設けて現地供給する形態も一般的です。特殊材料ガスと比べれば単価は低いものの、使用量が桁違いに大きいため供給の安定性とコストがファブ運営に直結します。純度は6N〜7N級が要求され、配管系まで含めた品質管理が前提になります。
主要特徴
スペック比較
複数の製品が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Air Productsオンサイト窒素供給プラント（PRISM ほか） | エア・リキード（Air Liquide）大型オンサイト窒素・アルゴンプラント | 大陽日酸（Taiyo Nippon Sanso）高純度窒素・アルゴン供給システム |
|---|---|---|---|
| 対象ガス | 窒素（N₂）・酸素・アルゴン | 窒素・酸素・アルゴン・ヘリウム | 窒素・アルゴン・ヘリウム・水素 |
| 供給方式 | オンサイトプラント＋配管直結 | オンサイト深冷分離プラント／ローリー | オンサイトプラント／液化ローリー |
| 純度の目安 | N₂ 99.9999%（6N）以上 | 6N ～ 7N（用途による） | 99.9999% 以上 |
| 主要用途 | パージ・搬送・雰囲気ガス | ファブ全体のユーティリティガス | 装置パージ・搬送・熱処理雰囲気 |
| 付帯設備 | — | バックアップ液化タンク・純化器 | 純化器・分析計・遠隔監視 |
1製品だけが掲載している項目（1件）
| 管理指標 | 水分・酸素・炭化水素の残留濃度 | — | — |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
オンサイト窒素供給プラント（PRISM ほか）
ファブ敷地内に窒素製造装置を置いて配管直結で供給する方式。半導体工場は窒素消費量が極端に大きいため、輸送より自製が経済的になる。
| 対象ガス | 窒素（N₂）・酸素・アルゴン |
| 供給方式 | オンサイトプラント＋配管直結 |
| 純度の目安 | N₂ 99.9999%（6N）以上 |
| 管理指標 | 水分・酸素・炭化水素の残留濃度 |
| 主要用途 | パージ・搬送・雰囲気ガス |
大型オンサイト窒素・アルゴンプラント
深冷分離による大型ガスプラント。ファブの立ち上げに合わせて建設し、10 年以上の長期供給契約で運用されるのが通例。
| 対象ガス | 窒素・酸素・アルゴン・ヘリウム |
| 供給方式 | オンサイト深冷分離プラント／ローリー |
| 純度の目安 | 6N ～ 7N（用途による） |
| 付帯設備 | バックアップ液化タンク・純化器 |
| 主要用途 | ファブ全体のユーティリティガス |
高純度窒素・アルゴン供給システム
日本のファブ向けバルクガス供給の主力。プラント建設から配管・純化器・保守までを一括で請けるのが一般的な形。
| 対象ガス | 窒素・アルゴン・ヘリウム・水素 |
| 供給方式 | オンサイトプラント／液化ローリー |
| 純度の目安 | 99.9999% 以上 |
| 付帯設備 | 純化器・分析計・遠隔監視 |
| 主要用途 | 装置パージ・搬送・熱処理雰囲気 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
5社の主要メーカー
産業ガス・特殊ガスのグローバル大手メーカー。半導体製造に不可欠な高純度プロセスガス（成膜・エッチング用）とガス供給インフラを世界的に展開する。
- •特殊ガスでグローバルトップクラス
- •高純度ガス供給インフラに強み
産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。
- •半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー
- •Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給
日本最大の産業ガスメーカー（三菱ケミカルグループ傘下）。半導体向け超高純度特殊ガス（SiH₄・HF・BF₃・Cl₂等）・超純液体窒素・液体ヘリウムを供給。世界20カ国以上に特殊ガス製造・供給拠点を持つ。
- •半導体向け特殊ガスで日本最大のサプライヤー
- •超高純度ガス（Grade 6N以上）の製造・分析技術
産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。
- •バルクガスと特殊ガスの両方を供給
- •オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制
産業ガス・特殊ガスのグローバル最大手メーカー。半導体製造向け高純度ガスの供給に加え、ガス供給システムの設計・運用まで一貫して手掛ける。
- •産業ガスでグローバル最大手
- •高純度ガス供給とインフラ運用に強み
関連カテゴリ
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メーカー 6 社プロセス薬液プロセス薬液は、レジストの現像、不要膜の剥離、表面の洗浄といった湿式工程で使われる液体材料のカテゴリです。
メーカー 8 社半導体材料半導体材料は、ウェハ・フォトレジスト・特殊ガス・CMPスラリー・封止樹脂・リードフレーム・ボンディングワイヤなど、半導体製造の各工程で使用される多様な材料群の総称です。
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メーカー 6 社ウェハ基板材料ウェハ基板材料は、デバイスが作り込まれる土台そのもののカテゴリです。
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