廢水處理設備是什麼
廢水處理設備是將清洗、蝕刻、CMP 所產生的廢水處理至法規標準值後，再予以排放或再利用的設備。含氟廢水以鈣化合物形式沉澱分離，酸鹼廢水進行中和，CMP 廢水則以混凝沉澱與過濾去除微粒。半導體工廠使用大量超純水，因此廢水量也很大，從處理成本與水資源兩方面來看，提高回收・再利用的比率都很重要。依使用的化學品種類區分廢水系統的分流回收，是決定處理效率的前提條件。
重點整理
將清洗・蝕刻・CMP 廢水處理至法規標準值的設備
氟以沉澱分離、酸鹼以中和、CMP 廢水以混凝沉澱處理
由於使用大量超純水，提高回收・再利用率十分重要
依化學品種類進行廢水分流是處理效率的前提
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