Luminous NA シリーズとは
Luminous NA シリーズは、ULVAC のアッシング装置です。ウェーハのサイズを問わずに使える設計で、次世代のウェーハプロセスからウェーハレベルパッケージ（WLP）まで対応します。
ウェーハ用のほか、最大 600mm 角のパネルに対応する機種もあります。イオン注入後のレジスト剥離、ポリマー除去、デスカムに使われます。
主な特長
- •ウェーハサイズを問わない設計
- •パネル対応型は 600mm 角まで
主な仕様
| 方式 | プラズマアッシング |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | ウェーハサイズフリー（パネル対応型は 600 mm 角まで） |
| 構成 | ウェーハ用／パネル用 |
| 主要用途 | イオン注入後レジスト剥離・ポリマー除去・デスカム |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | PSK HoldingsSUPRA Vplus | Mattson TechnologySuprema® | ULVAC（アルバック）Luminous NA シリーズ | Lam ResearchGAMMA®（ストリップ） |
|---|---|---|---|---|
| 方式 | ドライストリップ（プラズマアッシング） | ドライストリップ（ファラデーシールド ICP） | プラズマアッシング | プラズマストリップ（マルチステーション逐次処理） |
| 主要用途 | フォトレジスト除去・イオン注入後ストリップ・ハードマスク除去 | バルクストリップ・DRAM／3D NAND 向け（Suprema XP） | イオン注入後レジスト剥離・ポリマー除去・デスカム | 高ドーズ注入後ストリップ・バルクストリップ・デスカム |
| 対応ウェハ径 | — | 300 mm | ウェーハサイズフリー（パネル対応型は 600 mm 角まで） | — |
| 構成 | — | モジュール構成・真空／大気ロボット（300 枚／時超） | ウェーハ用／パネル用 | — |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| シリーズ構成 | SUPRA Vplus／N／Nm（マイクロ波源）／XP（酸素フリー） | — | — | — |
|---|---|---|---|---|
| ラインアップ | — | — | — | GAMMA xPR・GAMMA GxT |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •イオン注入後のレジスト剥離
- •ポリマー除去・デスカム
- •WLP・パネルレベルパッケージ
掲載カテゴリ
Luminous NA シリーズは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ULVAC（アルバック）
真空技術を核に、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング・測定装置を手がける日本の総合真空機器メーカー。半導体に加えFPD・太陽電池にも展開。
アッシング装置（レジスト灰化）のほかの製品
ULVAC（アルバック）のほかの製品
ENTRON-EXX（PVD装置）CME-200E（PE-CVD）（CVD装置）ENTRON-EX W300（PVD装置）ei-5（真空蒸着装置）HELIOT 900 シリーズ（リークディテクタ）CCMT-D シリーズ（真空計・圧力コントローラ）H83／H84（拡散炉）（拡散炉）IMX-3500（イオン注入装置）（中電流イオン注入装置）IH（高エネルギーイオン注入装置）（高エネルギーイオン注入装置）SOPHI（中電流イオン注入装置）（中電流イオン注入装置）SOPHI-400（高エネルギーイオン注入装置）（高エネルギーイオン注入装置）RISE-300（自然酸化膜除去装置）（ドライ洗浄装置）NLD-570（ドライエッチング装置）（MEMS）NLD-5700（ドライエッチング装置）（MEMS）NE-550EX（ドライエッチング装置）（ドライエッチング装置）uGmni-200E（ドライエッチング装置）（ドライエッチング装置）ei-5／EVD-600LP（蒸着装置）（真空蒸着装置）CC-200（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））CME（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））uGmni-200C（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））CS（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）SEGul-200（GaN スパッタエピ装置）（化合物半導体）SRH（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）SME（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07