ULVAC(アルバック)/MEMS

NLD-5700(ドライエッチング装置)

NLD プラズマを搭載したオプトデバイス・MEMS 向けの量産対応ドライエッチング装置。

NLD-5700とは

NLD-5700 は、アルバックのオプトデバイス・MEMS 向けのドライエッチング装置です。独自の磁気中性線プラズマ(NLD)による、低圧・低電子温度・高密度のプラズマを搭載しています。

カセット室を標準装備し、アライナ機構を追加すれば量産装置として使えます。エッチングチャンバーやアッシングチャンバーも追加できます。

NLD は ICP 方式より低圧で高密度、低電子温度のプラズマを作れるため、石英、ガラス、水晶、LN、LT 基板などを加工できます。光デバイス、マイクロレンズ、フォトニック結晶、μ-TAS の流路などの作成に使われます。

主な特長

  • •NLD プラズマ
  • •量産対応のカセット室
  • •チャンバーの追加が可能

主な仕様

方式磁気中性線プラズマ(NLD)
構成カセット室標準・エッチング/アッシング室を追加可能
対象石英・ガラス・水晶・LN・LT 基板

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目東京エレクトロン(TEL)Tactras™Suss MicroTecMA8 Gen5(マスクアライナー)EV GroupEVG®510(ウェーハ接合装置)Lam ResearchDSiE™(深堀りシリコンエッチング)KLASPTS Omega® Rapier™KLAPrimaxx® Monarch 300KLAXactix® X4KLAMVD300®アドバンテストHA7200(温度・圧力ユニット)アドバンテストHA7300(Stimulus Test Cell)ULVAC(アルバック)NLD-570(ドライエッチング装置)ULVAC(アルバック)NLD-5700(ドライエッチング装置)
方式反応性イオンエッチング(RIE)——深堀りシリコンエッチング(ボッシュ法・定常法)DRIE(ボッシュ法・デュアルプラズマ源)気相 HF(VHF)エッチングXeF₂ 気相エッチング(パルス・連続)分子気相成膜(MVD)ダイレクト温度印加・小型チャンバ・専用圧力コントローラ—磁気中性線プラズマ(NLD)・低圧・低電子温度・高密度磁気中性線プラズマ(NLD)
主要用途高アスペクト比エッチングMEMS・LED・マイクロ光学・光センサーMEMS のキャップ接合・気密封止MEMS・パワーデバイスのトレンチ・WLP の TSV——MEMS デバイスのリリースMEMS の固着防止膜・腐食防止膜——光デバイス・マイクロレンズ・フォトニック結晶・μ-TAS—
対応ウェハ径300 mm最大 200 mm小片 ~ 200 mm—最大 300 mm200/300 mm——————
対象————————車載用などの圧力センサディーゼル排気系の差圧センサなど石英・ガラス・水晶・LN・LT 基板石英・ガラス・水晶・LN・LT 基板
特徴—SUSS レベリングシステム・クラスターへの組み込み可————特許のデュアル膨張室—————
構成———————MVD300・MVD300E(EFEM 付き全自動)———カセット室標準・エッチング/アッシング室を追加可能
1機種だけが掲載している項目(10件)
チャンバー構成最大 6 チャンバー(水平対向設計)———————————
露光方式—マスクアライナー(インプリント対応)——————————
接合方式——陽極・ガラスフリット・はんだ・共晶・TLP・直接接合—————————
最大荷重・温度——10/20/60 kN、最高 550°C—————————
ラインアップ———DSiE III・DSiE F Series・DSiE G Series————————
実績————DRIE プロセスモジュール 1,500 以上———————
処理—————1 バッチ最大 13 枚・最大 6 モジュール——————
連携————————EVA100・ハンドラとのセンサテストセル———
温度制御—————————8 個一括(低温用/高温用の温調プレート)——
圧力—————————2Port 圧力コントローラ・圧力印加ノズル——

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •オプトデバイス・MEMS の量産加工

掲載カテゴリ

NLD-5700は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

ULVAC(アルバック)

真空技術を核に、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング・測定装置を手がける日本の総合真空機器メーカー。半導体に加えFPD・太陽電池にも展開。

ULVAC(アルバック) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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