烘烤・UV 固化設備是什麼
烘烤・UV 固化設備是以加熱或紫外線照射使塗佈膜硬化、穩定化的設備。在光阻製程中，以預烤（prebake）去除溶劑，以曝後烤（PEB）推進化學增幅反應，再以硬烤（postbake）提高抗蝕刻性。對聚醯亞胺或 Low-k 膜則以 UV 固化推進交聯，塑造機械強度與介電常數。決定膜質的不只是溫度絕對值，升降溫曲線與面內均勻性同樣關鍵，因此加熱板的溫度分布管理是設備性能的核心。
重點整理
以預烤・PEB・硬烤分階段塑造膜的狀態
UV 固化用於聚醯亞胺或 Low-k 膜的交聯・低介電常數化
比起溫度絕對值，升降溫曲線與面內均勻性更具影響
加熱板的溫度分布管理是設備性能的核心
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曝光機的其他分類
塗佈顯影機
塗佈顯影機（Coater/Developer）是在微影製程中進行光阻塗佈（coating）與曝光後顯影（develop）的一體化設備。
DUV 曝光機DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。
電子束直寫設備電子束直寫設備是不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案的曝光設備。
EUV 曝光機EUV 曝光機（Extreme Ultraviolet Lithography）是使用波長 13.5nm 的極紫外光，將超微細電路圖案轉印到晶圓上的曝光設備。
i-line 步進機i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈 i-line（波長 365nm）為光源的曝光設備，目前仍廣泛用於 0.18μm 以上成熟節點的半導體製造。
雷射直寫設備（LDI）雷射直寫設備（LDI／無光罩曝光設備）是不透過光罩，以雷射光掃描描繪圖案的曝光設備。
光罩對準曝光機光罩對準曝光機（Mask Aligner）是讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印圖案的曝光設備。
奈米壓印微影（NIL）奈米壓印微影（NIL：Nanoimprint Lithography）是將光罩（模板）上的奈米結構圖案直接壓在紫外線硬化樹脂等材料上以轉印圖案的微影技術。