洗浄装置はウェハ上の残留物（フォトレジスト、エッチング副産物、金属汚染等）を薬液やプラズマで除去し、次のプロセスステップに備える装置です。7nm以下の先端プロセスでは、1個のパーティクル（0.1μm以下）が致命的な欠陥となるため、洗浄精度が歩留まり向上の鍵になります。2026年は、3D NANDやGAA対応で、より複雑な構造をダメージなくクリーニングする技術へのニーズが高まります。
#1
洗浄装置で世界トップシェアを占める日本企業。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度クリーニングを実現。露光・エッチング前後のウェハクリーニングで業界標準。
洗浄世界トップ表面処理日本企業
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総合装置メーカーとして洗浄装置も提供。Lam Researchとのプロセス連携、エッチング・成膜後の洗浄ソリューションで顧客基盤を強化。アジア圏での信頼度が高い。
プロセス連携アジア展開
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ドライエッチングの強みを活かし、エッチング後の洗浄を一貫ソリューションで提供。エッチング・洗浄の相乗効果でプロセスフロー最適化を実現。米国顧客での浸透度が高い。
エッチング連携米国展開
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| 順位 | 企業名 | 国 | 主な強み |
|---|---|---|---|
| #1 | SCREEN Holdings | 日本 | 洗浄世界トップ |
| #2 | Tokyo Electron | 日本 | プロセス連携 |
| #3 | Lam Research | 米国 | エッチング連携 |
| #4 | Ultra Clean Holdings | 米国 | サブシステム |
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