用語ウェハ研磨・面取り装置CMP装置最終更新 2026-10-10出典 1件Excel・PDF版

ディンプルとは

Dimple

ディンプルとは「えくぼ・小さなくぼみ」を意味し、表面にできる浅い皿状のくぼみのことです。半導体では研磨後のウェハ表面にできる局所的なくぼみの欠陥を指し、先端工程では露光の焦点ずれの原因になるためナノトポグラフィとして管理されます。TEM試料の中央を皿状に削って薄くする加工もディンプルと呼びます。

目次7項目
  1. 定義・解説
  2. 図解
  3. よくある質問
  4. 設備の製造メーカー
  5. 関連用語
  6. 比較・違いを学ぶ
  7. 出典・参考資料

定義・解説

ディンプル(Dimple)とは、英語で「えくぼ・小さなくぼみ」を意味し、表面にできる浅い皿状のくぼみのことです。ゴルフボールの表面のくぼみもディンプルと呼ばれます。半導体では、ウェハやチップの表面に生じる局所的なくぼみの欠陥を指すほか、くぼみを意図的に作る加工の名前としても使われます。

ウェハの欠陥としてのディンプルは、研磨後のウェハ表面にできる、直径が数mm程度で深さがごく浅いくぼみです。研磨の際の圧力のむらや、ウェハを保持する部材・研磨パッドの局所的な状態、結晶内部の欠陥などが原因になります。肉眼では見えないほど浅くても、露光の焦点深度が浅い先端工程では局所的な焦点ずれの原因になるため、ナノトポグラフィ(ウェハ表面の数mm範囲の起伏)の一部として、光学式の平坦度・表面検査装置で管理されます。デバイス工程のCMPでは、配線やパッドの金属部分が周囲より削れてくぼむ現象をディッシングと呼び、ディンプルとは区別して扱うのが一般的です。

くぼみを意図的に作る例としては、透過電子顕微鏡(TEM)の試料作りのディンプルグラインディングがあります。試料の中央を研磨して皿状にくぼませ、中心部だけを薄くしてから、イオンで削って電子線が透過する厚さに仕上げます。このほか、はんだ接合や放熱面で、くぼみを付けて濡れ広がりや空気の抜けを制御する設計にもディンプルの語が使われます。

図解

ディンプルの意味(ウェハ表面のくぼみ欠陥とTEM試料の加工)
英語で「えくぼ・小さなくぼみ」の意味。

よくある質問(FAQ)

ディンプルとディッシングの違いは何ですか?
ディンプルはウェハなどの表面にできる局所的な浅いくぼみ全般を指し、研磨後のウェハの欠陥として使われることが多い言葉です。ディッシングはCMPで配線やパッドの金属部分が周囲の絶縁膜より削れて皿状にくぼむ現象を指し、パターンに依存して生じる点が異なります。
ウェハのディンプルはなぜ問題になるのですか?
先端の露光工程は焦点が合う深さ(焦点深度)が非常に浅いため、ウェハ表面のわずかなくぼみでも局所的に焦点がずれ、パターンの寸法不良の原因になるからです。そのためウェハの表面の起伏は、ナノトポグラフィとして検査装置で管理されます。

設備の製造メーカー

関連する装置カテゴリ

同じトピックの用語

シリコンウェハ製造(結晶成長・スライス・研磨) のトピックで関連する用語です。

同じトピックの企業

信越化学工業日本GlobalWafers(環球晶圓)台湾SiltronicドイツSK Siltron韓国SoitecフランスDISCO日本

比較・違いを学ぶ

出典・参考資料

  1. SEMI「SEMI International Standards: Compilation of Terms(Updated 1218)」(2026/10/10 確認)