HA1200とは
HA1200 は、アドバンテストのプローバです。ダイレベルでの高発熱の試験で、ハイエンド SoC の生産性向上に貢献します。
ハイエンド SoC に使うチップレット技術は高い演算能力を実現する一方、ダイを積み重ねることで良品と不良品が混ざるリスクが高まり、良品だったはずの多くのダイや基板、インターポーザを捨てることにつながります。
個片化したダイへの高精度な自動プロービングで、これまでファイナルテストでしかできなかったフルデバイスの試験を組立工程の前に行えるようにし、良品と不良品を混ぜて積層することを防ぎます。パッケージテストで実績のある、テスタと連動した独自のアクティブサーマルコントロールで、ダイの高い発熱にも対応します。
主な特長
- •個片ダイのフルデバイス試験
- •テスタ連動の ATC
- •積層前の良品選別
主な仕様
| 方式 | 個片ダイへの高精度自動プロービング |
|---|---|
| 温度制御 | テスタ連動の ATC(Active Thermal Control) |
| 対象 | チップレットを使うハイエンド SoC |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン(TEL)Precio™ XL(ウェーハプローバ) | 東京エレクトロン(TEL)Prexa™ | 東京エレクトロン(TEL)Prexa™ MS | 東京エレクトロン(TEL)Cellcia™ | 東京エレクトロン(TEL)WDF™ 12DP+ | 東京エレクトロン(TEL)Precio octo™ | 東京精密(Accretech)UF3000EX-e(ウェーハプローバ) | アドバンテストHA1200(ダイレベルプローバ) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 200/300 mm | 300 mm(200 mm はオプション) | 300 mm(200 mm はオプション) | 300 mm | — | 150/200 mm | 200 ~ 300 mm(特殊ウェーハ含む) | — |
| XY 精度 | — | ±1.8µm(200mm オプション時 ±1.5µm) | ±0.8µm | — | ±1.8µm | ±2.0µm | — | — |
| 方式 | 全自動ウェーハプローバ(リニアモーター) | — | — | — | — | — | 全自動ウェーハプローバ | 個片ダイへの高精度自動プロービング |
| 主な機能 | TELPADS-I(高速針痕検査)・Auto Leveling・CoSMOz | — | — | — | — | — | OTS(光学式ターゲットスコープ)・15 インチタッチパネル | — |
| プロービング荷重 | — | 300 kg(オプション 450 kg) | 600 kg(オプション 1,000 kg) | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | — | メモリ・ウェーハレベルバーンイン | — | — | ウェーハテスト(プローブテスト) | — |
| 対象 | — | — | — | — | 200/300mm ウェーハ・300mm ダイシングフレーム | — | — | チップレットを使うハイエンド SoC |
1機種だけが掲載している項目(5件)
| 精度 | XY ±1.8 µm・Z ±5.0 µm | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| セル数 | — | — | — | 12 または 25 | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | N-Shot アライメント(ダイシング前後) | — | — | — |
| オプション | — | — | — | — | — | 超高速針痕自動検査 TELPADS-I | — | — |
| 温度制御 | — | — | — | — | — | — | — | テスタ連動の ATC(Active Thermal Control) |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •チップレットの KGD 試験
掲載カテゴリ
HA1200は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ウェハプローバーのほかの製品
アドバンテストのほかの製品
V93000 EXA Scale(ロジックテストシステム)T5503HS2(メモリテストシステム)T5851/T5851ES(メモリテストシステム)MASK MVM-SEM® E3650(マスク寸法・平面度測定装置)T2000(最終テスト装置)M6242(テストハンドラ)(テストハンドラ)V93000 パワー・アナログソリューション(アナログ・リニアテストシステム)T5801(メモリテストシステム)T5835(メモリテストシステム)T5830(メモリテストシステム)T5833(メモリテストシステム)T5511(メモリテストシステム)T5221(メモリテストシステム)T5230(メモリテストシステム)H5620(メモリテストシステム)B6700 シリーズ(バーンインシステム)T6391(混在型テストシステム)EVA100(アナログ・リニアテストシステム)EXAVIS(パワー半導体)MT100/MT200(パワー半導体テストシステム)(パワー半導体)M5241(テストハンドラ)(テストハンドラ)M4841(テストハンドラ)(テストハンドラ)M4872(テストハンドラ)(テストハンドラ)M4173(テストハンドラ)(テストハンドラ)HA7200(温度・圧力ユニット)(MEMS)HA7300(Stimulus Test Cell)(MEMS)7038(システムレベルテスト)(最終テスト装置)MASK MVM-SEM® E3640(マスク寸法・平面度測定装置)MASK CD-SEM E3660(マスク寸法・平面度測定装置)MASK DR-SEM E5620(マスク検査装置)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07