WS-620C／WS-820C／WS-820L（ウェットステーション）
ライン構成を自由に組める高スループットのバッチ式洗浄システム。キャリア搬送とキャリアレス搬送の 2 方式がある。
WS-620C／WS-820C／WS-820Lとは
WS-620C／WS-820C／WS-820L は、SCREEN のバッチ式洗浄システム（ウェットステーション）です。ライン構成を柔軟に組める高スループットの装置です。
キャリアごと搬送して処理する WS-620C（150mm 用）と WS-820C（200mm 用）、キャリアを使わずに搬送する WS-820L（200mm 用）の 2 つの搬送方式があります。目的に応じて自由にシステムを構成でき、処理槽は最大 13 槽まで設けられます。
複数の槽と最大 6 台の搬送ロボットで高いスループットを実現します。処理槽の最適化、厳しい薬液管理、クリーンな乾燥部で安定した高品質の処理を行います。WS-820L は減圧乾燥装置を搭載でき、ウォータマークを抑えたクリーンな乾燥ができます。
主な特長
- •キャリア搬送／キャリアレス搬送
- •最大 13 槽の自由な構成
- •搬送ロボット最大 6 台
- •減圧乾燥でウォータマーク抑制（WS-820L）
主な仕様
| 方式 | バッチ式ウェット洗浄 |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | 150 mm（WS-620C）・200 mm（WS-820C／820L） |
| 構成 | 処理槽最大 13 槽・搬送ロボット最大 6 台 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | SCREENホールディングスFC-3100（ウェットステーション） | SCREENホールディングスWS-620C／WS-820C／WS-820L（ウェットステーション） | SCREENホールディングスFC-821L（ウェットステーション） | SCREENホールディングスCW-2000（コンパクトウェットステーション） | 東京エレクトロン（TEL）ZETA™+（バッチスプレー式洗浄装置） |
|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | バッチ式ウェットステーション | バッチ式ウェット洗浄 | バッチ式（ハーフピッチ・ワンバス） | — | バッチスプレー式（密閉シングルチャンバー、薬液最大 8 種） |
| 対応ウェハ径 | — | 150 mm（WS-620C）・200 mm（WS-820C／820L） | — | 50〜200 mm | 200／300 mm（Semi-auto は 150／200 mm） |
| スループット | 1,000 枚／時 | — | — | — | 450 wph（200 mm）／230 wph（300 mm） |
| 構成 | 7 つの独立モジュール（洗浄槽 2 槽で 1 モジュール） | 処理槽最大 13 槽・搬送ロボット最大 6 台 | — | — | — |
| 乾燥 | — | — | 減圧乾燥でウォータマークレス | DIS 乾燥・温風乾燥（HBD） | — |
1機種だけが掲載している項目（4件）
| 主な技術 | 減圧乾燥システム HiLPD（高濃度 IPA） | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|
| 特徴 | — | — | 1 槽で 5 種類の薬液を使用可能・薬液循環槽（CHB） | — | — |
| 処理能力 | — | — | — | 毎時 150 枚（従来比 1.5 倍） | — |
| 主要用途 | — | — | — | — | レジスト・メタル剥離、ポストエッチ洗浄、RCA 洗浄、DHF エッチ |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •150／200mm ラインのバッチ洗浄
掲載カテゴリ
WS-620C／WS-820C／WS-820Lは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
バッチ洗浄装置のほかの製品
SCREENホールディングスのほかの製品
DT-3000（SOKUDO DUO）（コータ／デベロッパ）SU-3300（枚葉式洗浄装置）（ウェットエッチング装置）FC-3100（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SU-3200（枚葉式洗浄装置）（ウェット洗浄装置）LA-3100（フラッシュランプアニール装置）（レーザーアニール装置）SU-3400（レジスト剥離装置（ウェット））スピンスクラバ SS-3200（ウェハスクラバ）FC-821L（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）CW-2000（コンパクトウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SU-2000（枚葉式洗浄装置）（シングルウェハ洗浄装置）SP-2100（スピンプロセッサ）（ウェットエッチング装置）SS-3300S（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SS-80EX（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SB-3300（ウェーハ裏面洗浄装置）（ウェハスクラバ）RF-200EX／RF-300EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SK-60EX／SK-80EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SC-80EX（スプレーコータ）（コータ／デベロッパ）RE-3500（エリプソ式膜厚測定装置）（エリプソメータ）VM-2500／VM-3500（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1200／VM-1300（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1020（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）ZI-3600（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）ZI-2000（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）DW-3100（直接描画露光装置）（レーザー直接描画装置）DR-8000（自動線幅測定装置）（マスク寸法・平面度測定装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07