SCREENホールディングス/レジスト剥離装置(ウェット)

SU-3400

SU シリーズの洗浄性能を引き継いだ SCREEN の枚葉式洗浄装置。ウェーハ面で硫酸温度を上げることで SPM 使用量を減らせる。

SU-3400とは

SU-3400 は、SCREEN の枚葉式洗浄装置です。SCREEN が 1983年から開発を続けてきた SU シリーズの最新機種で、ウェーハ表面の気液界面を最適に処理することを狙っています。

6 段 4 タワーの構成で最大 24 チャンバーを搭載し、毎時 1,200 枚の処理能力を持ちます。前機種 SU-3300 に比べて設置面積を 30% 小さくしました。ウェーハ面で硫酸の温度を上げる方式で SPM 薬液の使用量を減らせます。

排気と薬液使用の最適化で環境負荷を 20% 減らし、SCREEN の「スーパーグリーン製品」に認定されています。チャンバー内の高解像度映像監視や IoT による異常検知、チャンバー単位での保守にも対応します。

主な特長

  • •最大 24 チャンバー(6 段 4 タワー)
  • •処理能力 毎時 1,200 枚
  • •設置面積を前機種比 30% 削減
  • •SPM 使用量の削減・環境負荷 20% 低減

主な仕様

処理方式枚葉式ウェット(SPM 等)
対応ウェハ径300 mm
特徴処理能力 1,200 枚/時・SPM 使用量 30% 削減
主要用途レジスト剥離・洗浄

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目SCREENホールディングスSU-3400東京エレクトロン(TEL)CELLESTA™ Pro SPMVeeco InstrumentsWaferStorm®
処理方式枚葉式ウェット(SPM 等)枚葉式ウェット(SPM)浸漬(ImmJET)+高圧スプレー
特徴処理能力 1,200 枚/時・SPM 使用量 30% 削減CELLESTA プラットフォームメタルリフトオフ・フラックス洗浄・TSV 洗浄にも対応
主要用途レジスト剥離・洗浄レジスト剥離・有機物除去フォトレジスト・ドライフィルム剥離、ハイブリッドボンディング前洗浄
対応ウェハ径300 mm300 mm—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •レジスト剥離(SPM)
  • •300mm ウェーハの枚葉洗浄

掲載カテゴリ

SU-3400は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

SCREENホールディングス

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。

SCREENホールディングス の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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