SK-60EX/SK-80EX(コータ・デベロッパ)
ロングセラーの 60/80 シリーズを受け継ぐコータ・デベロッパ。薄ウェーハ・ガラス・LT・サファイアなど多様な基板に対応する。
SK-60EX/SK-80EXとは
SK-60EX/SK-80EX は、SCREEN のコータ・デベロッパ(塗布現像装置)です。多様化する電子デバイスの製造ニーズに応えるため、対応アプリケーションと機能を充実させました。
多くの実績を持つ 60/80 シリーズの高い信頼性の設計思想を受け継ぎ、先端分野や特殊用途向けの機能にも対応します。制御システムを刷新して将来の拡張に備え、60/80 シリーズとのプロセスレシピの互換性を保って、スムーズな増設に対応します。
薄ウェーハ、厚い基板、アルチック・フェライト系の磁性材料基板、ガラス基板、LT 基板、サファイア基板、両面にパターンのある基板など、基板の特性に合わせた多くのオプションで多様な基板に対応します。
主な特長
- •60/80 シリーズの信頼性を継承
- •レシピ互換を維持
- •多様な基板オプション
主な仕様
| 方式 | 塗布・現像 |
|---|---|
| 対応基板 | 薄ウェーハ・厚基板・ガラス・LT・サファイア・磁性材料基板など |
| 互換性 | 60/80 シリーズとレシピ互換 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ | SCREENホールディングスDT-3000(SOKUDO DUO) | SCREENホールディングスRF-200EX/RF-300EX(コータ・デベロッパ) | SCREENホールディングスSK-60EX/SK-80EX(コータ・デベロッパ) | SCREENホールディングスSC-80EX(スプレーコータ) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 300 mm | 300 mm | — | — | — | 300 mm | 150〜200 mm(RF-200EX) | — | 100〜200 mm |
| 方式 | — | — | 塗布現像(300mm) | 塗布現像(300mm) | 塗布現像(300mm) | — | — | 塗布・現像 | スプレー塗布(ウェーハ温調付き) |
| 特徴 | High-NA EUVプロセス向け欠陥制御技術 | — | — | OEE の最大化・ダブルパターニングへの拡張性 | OEE 向上・CoO 低減・省スペース | — | レジスト消費量・消費電力の削減 | — | — |
| 主要用途 | 先端リソグラフィのレジスト塗布・現像 | レジスト塗布・現像・各種ベーク | 先端パッケージング | — | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | — | LITHIUS Pro AP(300 mm/200 mm対応)(派生機種) | — | LITHIUS Pro V-i | LITHIUS Pro-i | — | — | — | — |
| スループット | — | インライン 300 wph | — | — | — | 450 枚/時 以上 | — | — | — |
| 対応プロセス | — | EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC | — | — | — | 液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(10件)
| 位置づけ | LITHIUS Pro Z の後継機 | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 販売開始 | 2025年12月 | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応ノード | — | 10 nm 世代以降 | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応材料 | — | — | 高粘度材料・Spin-on Hard Mask | — | — | — | — | — | — |
| 構成 | — | — | — | — | — | デュアルトラック(2プロセスライン並列) | — | — | — |
| 運用 | — | — | — | — | — | 片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能 | — | — | — |
| 対応薬液 | — | — | — | — | — | — | レジスト・ポリイミド・SOC など(RF-300EX) | — | — |
| 対応基板 | — | — | — | — | — | — | — | 薄ウェーハ・厚基板・ガラス・LT・サファイア・磁性材料基板など | — |
| 互換性 | — | — | — | — | — | — | — | 60/80 シリーズとレシピ互換 | — |
| ノズル | — | — | — | — | — | — | — | — | 薬液用最大 2・溶剤用 1 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •MEMS・SAW・磁気ヘッドなどのリソグラフィ
掲載カテゴリ
SK-60EX/SK-80EXは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
コータ/デベロッパのほかの製品
CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z(東京エレクトロン(TEL))DT-3000(SOKUDO DUO)(SCREENホールディングス)CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™(東京エレクトロン(TEL))RF-200EX/RF-300EX(コータ・デベロッパ)(SCREENホールディングス)SC-80EX(スプレーコータ)(SCREENホールディングス)
SCREENホールディングスのほかの製品
DT-3000(SOKUDO DUO)(コータ/デベロッパ)SU-3300(枚葉式洗浄装置)(ウェットエッチング装置)FC-3100(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)SU-3200(枚葉式洗浄装置)(ウェット洗浄装置)LA-3100(フラッシュランプアニール装置)(レーザーアニール装置)SU-3400(レジスト剥離装置(ウェット))スピンスクラバ SS-3200(ウェハスクラバ)WS-620C/WS-820C/WS-820L(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)FC-821L(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)CW-2000(コンパクトウェットステーション)(バッチ洗浄装置)SU-2000(枚葉式洗浄装置)(シングルウェハ洗浄装置)SP-2100(スピンプロセッサ)(ウェットエッチング装置)SS-3300S(スピンスクラバ)(ウェハスクラバ)SS-80EX(スピンスクラバ)(ウェハスクラバ)SB-3300(ウェーハ裏面洗浄装置)(ウェハスクラバ)RF-200EX/RF-300EX(コータ・デベロッパ)(コータ/デベロッパ)SC-80EX(スプレーコータ)(コータ/デベロッパ)RE-3500(エリプソ式膜厚測定装置)(エリプソメータ)VM-2500/VM-3500(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)VM-1200/VM-1300(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)VM-1020(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)ZI-3600(パターン付きウェーハ外観検査装置)(マクロ検査装置)ZI-2000(パターン付きウェーハ外観検査装置)(マクロ検査装置)DW-3100(直接描画露光装置)(レーザー直接描画装置)DR-8000(自動線幅測定装置)(マスク寸法・平面度測定装置)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07