DT-3000（SOKUDO DUO）
2本のプロセスラインを並列運転するデュアルトラック方式のコータ・デベロッパ。搬送速度を抑えたまま高いスループットを得る構成を取る。
DT-3000とは
DT-3000（SOKUDO DUO）は、SCREEN セミコンダクターソリューションズの 300mm 対応コータ・デベロッパです。2本のプロセスラインを並列に収めたデュアルトラック方式を採り、毎時 450 枚以上のスループットを実現しています。
デュアルトラックの利点は、搬送速度を上げずに処理枚数を増やせることです。搬送系に無理をかけないため信頼性も確保できます。2本のラインは独立して運用でき、片方のメンテナンス中ももう片方で生産を続けられるため、装置のダウンタイムを減らせます。
2本のラインをコンパクトなプラットフォームに収めたことでフットプリントも大きく削減しました。先端液浸リソグラフィ、電子ビーム、DSA（誘導自己組織化）に対応し、量産歩留まりの向上に効く独自技術を載せています。
主な特長
- •デュアルトラック方式で毎時 450 枚以上
- •2ラインの独立運用によるノンストップ生産
- •2ラインを1台に収めた省フットプリント設計
- •液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA に対応
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 300 mm |
|---|---|
| スループット | 450 枚／時 以上 |
| 構成 | デュアルトラック（2プロセスライン並列） |
| 運用 | 片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能 |
| 対応プロセス | 液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE | 東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z | SCREENホールディングスDT-3000（SOKUDO DUO） |
|---|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 300 mm | 300 mm | 300 mm |
| 主要用途 | 先端リソグラフィのレジスト塗布・現像 | レジスト塗布・現像・各種ベーク | — |
| スループット | — | インライン 300 wph | 450 枚／時 以上 |
| 対応プロセス | — | EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC | 液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA |
1機種だけが掲載している項目（7件）
| 位置づけ | LITHIUS Pro Z の後継機 | — | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | High-NA EUVプロセス向け欠陥制御技術 | — | — |
| 販売開始 | 2025年12月 | — | — |
| 対応ノード | — | 10 nm 世代以降 | — |
| 関連機種 | — | LITHIUS Pro AP（300 mm／200 mm対応）（派生機種） | — |
| 構成 | — | — | デュアルトラック（2プロセスライン並列） |
| 運用 | — | — | 片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •液浸 ArF リソグラフィ工程のレジスト塗布・現像・ベーク
- •電子ビーム・DSA を使う先端パターニング
掲載カテゴリ
DT-3000は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-05