RF-200EX/RF-300EX(コータ・デベロッパ)
次世代パワーデバイス・車載デバイス向けのコータ・デベロッパ。RF-200EX は 200mm 専用、RF-300EX は薄ウェーハ対応。
RF-200EX/RF-300EXとは
RF-200EX と RF-300EX は、SCREEN の次世代パワーデバイス・車載デバイス向けのコータ・デベロッパ(塗布現像装置)です。長年培った塗布・現像のノウハウを受け継ぎ、高い生産性と省フットプリントを両立しました。塗布時のレジスト消費量や稼働時の消費電力も減らしています。
RF-200EX は 200mm ウェーハ向けの専用設計で、省フットプリントと DUV プロセスへの対応を実現しました。300mm 装置で培った多段構成の技術をもとに 150〜200mm 専用のプラットフォームを新しく設計し、薬液消費の削減、パーティクル・欠陥の低減、保守性の向上など最先端向けのユニット技術を移植しています。
RF-300EX は薄いウェーハ向けに専用設計した搬送・保持機構で、薄ウェーハを割らずに安定して塗布・現像します。薬液の種類や粘度に応じて吐出システムを選べ、レジスト、ポリイミド、SOC など幅広い薬液に対応します。
主な特長
- •200mm 専用プラットフォーム
- •薄ウェーハ対応(RF-300EX)
- •多様な薬液に対応
- •レジスト・電力の削減
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 150〜200 mm(RF-200EX) |
|---|---|
| 対応薬液 | レジスト・ポリイミド・SOC など(RF-300EX) |
| 特徴 | レジスト消費量・消費電力の削減 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V | 東京エレクトロン(TEL)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ | SCREENホールディングスDT-3000(SOKUDO DUO) | SCREENホールディングスRF-200EX/RF-300EX(コータ・デベロッパ) | SCREENホールディングスSK-60EX/SK-80EX(コータ・デベロッパ) | SCREENホールディングスSC-80EX(スプレーコータ) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 300 mm | 300 mm | — | — | — | 300 mm | 150〜200 mm(RF-200EX) | — | 100〜200 mm |
| 方式 | — | — | 塗布現像(300mm) | 塗布現像(300mm) | 塗布現像(300mm) | — | — | 塗布・現像 | スプレー塗布(ウェーハ温調付き) |
| 特徴 | High-NA EUVプロセス向け欠陥制御技術 | — | — | OEE の最大化・ダブルパターニングへの拡張性 | OEE 向上・CoO 低減・省スペース | — | レジスト消費量・消費電力の削減 | — | — |
| 主要用途 | 先端リソグラフィのレジスト塗布・現像 | レジスト塗布・現像・各種ベーク | 先端パッケージング | — | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | — | LITHIUS Pro AP(300 mm/200 mm対応)(派生機種) | — | LITHIUS Pro V-i | LITHIUS Pro-i | — | — | — | — |
| スループット | — | インライン 300 wph | — | — | — | 450 枚/時 以上 | — | — | — |
| 対応プロセス | — | EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC | — | — | — | 液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(10件)
| 位置づけ | LITHIUS Pro Z の後継機 | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 販売開始 | 2025年12月 | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応ノード | — | 10 nm 世代以降 | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応材料 | — | — | 高粘度材料・Spin-on Hard Mask | — | — | — | — | — | — |
| 構成 | — | — | — | — | — | デュアルトラック(2プロセスライン並列) | — | — | — |
| 運用 | — | — | — | — | — | 片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能 | — | — | — |
| 対応薬液 | — | — | — | — | — | — | レジスト・ポリイミド・SOC など(RF-300EX) | — | — |
| 対応基板 | — | — | — | — | — | — | — | 薄ウェーハ・厚基板・ガラス・LT・サファイア・磁性材料基板など | — |
| 互換性 | — | — | — | — | — | — | — | 60/80 シリーズとレシピ互換 | — |
| ノズル | — | — | — | — | — | — | — | — | 薬液用最大 2・溶剤用 1 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •パワーデバイス・車載デバイスのリソグラフィ
掲載カテゴリ
RF-200EX/RF-300EXは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
コータ/デベロッパのほかの製品
CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z(東京エレクトロン(TEL))DT-3000(SOKUDO DUO)(SCREENホールディングス)CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V(東京エレクトロン(TEL))CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™(東京エレクトロン(TEL))SK-60EX/SK-80EX(コータ・デベロッパ)(SCREENホールディングス)SC-80EX(スプレーコータ)(SCREENホールディングス)
SCREENホールディングスのほかの製品
DT-3000(SOKUDO DUO)(コータ/デベロッパ)SU-3300(枚葉式洗浄装置)(ウェットエッチング装置)FC-3100(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)SU-3200(枚葉式洗浄装置)(ウェット洗浄装置)LA-3100(フラッシュランプアニール装置)(レーザーアニール装置)SU-3400(レジスト剥離装置(ウェット))スピンスクラバ SS-3200(ウェハスクラバ)WS-620C/WS-820C/WS-820L(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)FC-821L(ウェットステーション)(バッチ洗浄装置)CW-2000(コンパクトウェットステーション)(バッチ洗浄装置)SU-2000(枚葉式洗浄装置)(シングルウェハ洗浄装置)SP-2100(スピンプロセッサ)(ウェットエッチング装置)SS-3300S(スピンスクラバ)(ウェハスクラバ)SS-80EX(スピンスクラバ)(ウェハスクラバ)SB-3300(ウェーハ裏面洗浄装置)(ウェハスクラバ)SK-60EX/SK-80EX(コータ・デベロッパ)(コータ/デベロッパ)SC-80EX(スプレーコータ)(コータ/デベロッパ)RE-3500(エリプソ式膜厚測定装置)(エリプソメータ)VM-2500/VM-3500(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)VM-1200/VM-1300(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)VM-1020(光干渉式膜厚測定装置)(膜厚計測装置)ZI-3600(パターン付きウェーハ外観検査装置)(マクロ検査装置)ZI-2000(パターン付きウェーハ外観検査装置)(マクロ検査装置)DW-3100(直接描画露光装置)(レーザー直接描画装置)DR-8000(自動線幅測定装置)(マスク寸法・平面度測定装置)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07