SU-2000（枚葉式洗浄装置）
ハイエンド機 SU-3200 の技術を受け継ぎ、パワー半導体・MEMS などのグリーンデバイス向けにコストを抑えた枚葉洗浄装置。
SU-2000とは
SU-2000 は、SCREEN の枚葉式洗浄装置です。エアコン、電車、電気自動車などのインバータに使うパワー半導体や、MEMS、BSI センサーなどの「グリーンデバイス」の製造に向けて開発されました。
ハイエンド装置 SU-3200 の基本設計とノウハウを受け継ぎ、高度なプロセス性能に対応しながらコストパフォーマンスを高めています。通常のシリコンウェーハから薄いウェーハまで柔軟に扱えます。
生産規模に応じて 2 チャンバと 4 チャンバの仕様を選べます。4 チャンバ仕様でも従来の 2 チャンバ装置からわずか 14% の大きさの増加で置き換えられます。装置の背面に薬液供給システムを置くオールインワン設計で、設置面積を抑え、処理の制御性を高めています。
主な特長
- •SU-3200 の技術を継承
- •薄ウェーハに対応
- •2／4 チャンバ仕様
- •オールインワン構成
主な仕様
| 方式 | 枚葉式洗浄 |
|---|---|
| 構成 | 2 チャンバ・4 チャンバ |
| 特徴 | 薄ウェーハ対応・オールインワン構成 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | SCREENホールディングスSU-3300（枚葉式洗浄装置） | SCREENホールディングスSU-2000（枚葉式洗浄装置） | 東京エレクトロン（TEL）CELLESTA™-i（枚葉洗浄装置） | 東京エレクトロン（TEL）CELLESTA™-i MD | Lam ResearchEOS®（ウェット洗浄） | Lam ResearchDV-Prime®／Da Vinci® |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | 枚葉式 | 枚葉式洗浄 | 枚葉式 | 枚葉洗浄（300mm） | 枚葉ウェット洗浄 | 枚葉ウェット洗浄 |
| 特徴 | — | 薄ウェーハ対応・オールインワン構成 | — | — | 高アスペクト比のパターン倒れのない乾燥・溶剤の回収 | 装置内の薬液供給・薬液回収システム |
| チャンバー構成 | 最大 24 チャンバー（4段×6タワー） | — | 最大 20 チャンバー | — | — | — |
| 主な技術 | パターン倒壊を抑える乾燥技術・APAC2 | — | 薬液リサイクル・物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニット | — | — | — |
| 主要用途 | 先端デバイスの洗浄 | — | — | — | — | 粒子・ポリマー除去、裏面洗浄、レジスト除去、基板薄化 |
| 構成 | — | 2 チャンバ・4 チャンバ | — | — | 最大 16 プロセスチャンバー | — |
1機種だけが掲載している項目（4件）
| 対応ウェハ径 | — | — | 300 mm | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 関連機種 | — | — | CELLESTA-i MD（10nm 以細向け）・CELLESTA MS2（両面物理洗浄） | — | — | — |
| スループット | — | — | — | 650 wph | — | — |
| 乾燥方式 | — | — | — | 新 IPA 乾燥・SMD | — | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •パワー半導体・MEMS の洗浄
- •TSV・BSI センサーの洗浄
掲載カテゴリ
SU-2000は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
シングルウェハ洗浄装置のほかの製品
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DT-3000（SOKUDO DUO）（コータ／デベロッパ）SU-3300（枚葉式洗浄装置）（ウェットエッチング装置）FC-3100（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SU-3200（枚葉式洗浄装置）（ウェット洗浄装置）LA-3100（フラッシュランプアニール装置）（レーザーアニール装置）SU-3400（レジスト剥離装置（ウェット））スピンスクラバ SS-3200（ウェハスクラバ）WS-620C／WS-820C／WS-820L（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）FC-821L（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）CW-2000（コンパクトウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SP-2100（スピンプロセッサ）（ウェットエッチング装置）SS-3300S（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SS-80EX（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SB-3300（ウェーハ裏面洗浄装置）（ウェハスクラバ）RF-200EX／RF-300EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SK-60EX／SK-80EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SC-80EX（スプレーコータ）（コータ／デベロッパ）RE-3500（エリプソ式膜厚測定装置）（エリプソメータ）VM-2500／VM-3500（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1200／VM-1300（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1020（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）ZI-3600（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）ZI-2000（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）DW-3100（直接描画露光装置）（レーザー直接描画装置）DR-8000（自動線幅測定装置）（マスク寸法・平面度測定装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07