マスクアライナーメーカー3社
マスクアライナーは、マスクとウェハを直接向かい合わせ、等倍でパターンを一括転写する露光装置です。縮小投影を行うステッパーと違い光学系が単純で装置価格が低く、数μm程度の解像度で足りるMEMS・パワー半導体・化合物半導体・アドバンストパッケージングの分野で現役です。マスクとウェハを密着させるコンタクト方式、わずかに離すプロキシミティ方式、レンズを介するプロジェクション方式があり、解像度とマスク寿命のトレードオフで使い分けられます。厚膜レジストや反りのある基板にも対応しやすい点が実務上の利点です。
主要特徴
メーカー
3社の主要メーカー
産業用・半導体製造向け光源装置の日本大手。UV・DUV露光光源、ランプ式露光装置、UV硬化システムを手がける光技術の総合メーカー。
- •半導体露光用水銀ランプ・エキシマランプで国内トップ
- •UV硬化・表面処理向け光源の幅広いラインナップ
ドイツを拠点とする半導体製造装置メーカー。ウェーハレベルパッケージングおよび先端リソグラフィ技術のスペシャリスト。
- •ウェーハレベルパッケージング装置における専門性
- •マスクアライナーおよび基板ボンディング技術
オーストリアを拠点とするウェーハボンディングおよびリソグラフィ装置の世界的リーダー。先端パッケージングおよびMEMS製造に強み。
- •ウェーハボンディング技術における世界トップシェア
- •2.5D/3Dパッケージング向けソリューション
関連カテゴリ
ベーク・UVキュア装置は、塗布した膜を加熱または紫外線照射によって硬化・安定化させる装置です。
メーカー 5 社コータ／デベロッパコーター/デベロッパ（Coater/Developer）は、フォトリソグラフィ工程でレジスト塗布（コーティング）と露光後の現像（デベロップ）を行う一体型装置です。
メーカー 7 社DUV露光装置DUV露光装置（Deep Ultraviolet Lithography）は、ArFエキシマレーザー（193nm）またはKrFエキシマレーザー（248nm）を光源とした露光装置です。
メーカー 5 社電子ビーム直接描画装置電子ビーム直接描画装置は、マスクを使わず電子ビームでウェハへ直接パターンを描く露光装置です。
メーカー 4 社EUV露光装置EUV露光装置（Extreme Ultraviolet Lithography）は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社i線ステッパーi線ステッパー（i-line Stepper）は、水銀ランプのi線（波長365nm）を光源とする露光装置で、0.18μm以上の成熟ノードの半導体製造に現在も広く使用されています。
メーカー 3 社レーザー直接描画装置レーザー直接描画装置（LDI／マスクレス露光装置）は、マスクを介さずレーザー光を走査してパターンを描く露光装置です。
メーカー 3 社ナノインプリントリソグラフィ（NIL）ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。
メーカー 3 社