東京エレクトロン(TEL)/シングルウェハ洗浄装置

CELLESTA™-i(枚葉洗浄装置)

東京エレクトロンの 300mm 対応枚葉洗浄装置。最大 20 ユニットの洗浄チャンバーを搭載し、クリーンルーム占有面積あたりの生産性を高めている。

CELLESTA-iとは

CELLESTA-i は、東京エレクトロンの 300mm ウェーハ対応枚葉洗浄装置です。生産性を高めながら装置のフットプリントを抑え、従来装置に比べてクリーンルーム占有面積を大幅に減らしました。

最大 20 ユニットの洗浄チャンバーを搭載でき、1m² あたりの生産性は世界最高水準とされています。低 CoO 化のための薬液リサイクル技術や、ウェーハ上のパーティクルを取り除く物理洗浄装置も搭載します。ウェーハ外周部に特化したベベル洗浄ユニットや、少ない薬液で裏面を洗う裏面洗浄ユニットも載せられ、拡張性が高い装置です。

シリーズには、10nm ノード以細の洗浄プロセスに対応し、パターン倒壊を抑えた乾燥性能を持つ CELLESTA-i MD と、2流体スプレーとブラシで両面を同時に物理洗浄する CELLESTA MS2 があります。

主な特長

  • •最大 20 チャンバー、1m² あたり世界最高水準の生産性
  • •薬液リサイクルによる低 CoO
  • •物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニットを搭載可能

主な仕様

対応ウェハ径300 mm
方式枚葉式
チャンバー構成最大 20 チャンバー
主な技術薬液リサイクル・物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニット
関連機種CELLESTA-i MD(10nm 以細向け)・CELLESTA MS2(両面物理洗浄)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目SCREENホールディングスSU-3300(枚葉式洗浄装置)東京エレクトロン(TEL)CELLESTA™-i(枚葉洗浄装置)
方式枚葉式枚葉式
チャンバー構成最大 24 チャンバー(4段×6タワー)最大 20 チャンバー
主な技術パターン倒壊を抑える乾燥技術・APAC2薬液リサイクル・物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニット
1機種だけが掲載している項目(3件)
主要用途先端デバイスの洗浄—
対応ウェハ径—300 mm
関連機種—CELLESTA-i MD(10nm 以細向け)・CELLESTA MS2(両面物理洗浄)

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •300mm 量産ラインの枚葉ウェット洗浄
  • •ベベル・裏面の洗浄

掲載カテゴリ

CELLESTA-iは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

よくある質問

CELLESTA-i と CELLESTA-i MD の違いは?
CELLESTA-i MD は CELLESTA-i の基本コンセプトを発展させた機種で、10nm ノード以細の洗浄に対応し、チャンバー内雰囲気制御と独自の IPA 吐出技術でパターン倒壊を抑えた乾燥を行います。

メーカー

東京エレクトロン(TEL)

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。

東京エレクトロン(TEL) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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